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Stanford Advanced Materials
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스퍼터링 타겟

스퍼터링 타겟은 모노블록 또는 최대 820mm의 크기와 구성으로 제공되며, 구형 스퍼터링 장치와 대면적 코팅 및 플립칩 애플리케이션과 같은 최신 공정 장비 모두에서 작동하도록 설계된 홀 드릴 위치와 나사산, 베벨링, 그루브 및 백킹으로 생산됩니다. 맞춤형 크기 및 합금 구성과 마찬가지로 연구용 타겟도 사용할 수 있습니다.

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