구리 실리콘 인화물 결정 설명
구리 실리콘 인화물 결정은 층상 반데르발스(vdW) 구조를 가지고 있으며, 쉽게 박리할 수 있는 특징이 있습니다. 이러한 층상 구조에도 불구하고, 기본적인 물리적 특성은 대부분 알려져 있지 않습니다. 열처리나 레이저 처리를 통해 2D 금속 및 반금속으로 동작할 것으로 예상되며, 이러한 조건에서 SiP 층상 상으로 전환될 수 있습니다. 전자, 자기, 광학적 특성을 확립하기 위한 기초 연구가 절대적으로 필요합니다.
이들은 열 안정성이 뛰어나 고온 응용에 유리할 수 있습니다. 구리, 실리콘 및 인을 결합함으로써 기계적 강도가 우수한 재료가 될 수 있습니다.
구리 실리콘 인화물 결정 사양
재료
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CuSi2P3
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결정계
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단사정계
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단위 셀 매개변수
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a= 0.368 nm b=0.739 nm, c=1.635 nm,
α=48.1°; β=55.965°, γ=60.54°
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크기
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~3-5mm
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특성 분석 방법
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SIMS, XRD, EDS, Raman
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순도
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99.9995%
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구리 실리콘 인화물 결정 응용
- 반도체: 구리 실리콘 인화물 결정은 반도체 특성으로 인해 트랜지스터, 다이오드 및 집적 회로와 같은 전자 부품 제조에 사용될 수 있습니다.
- 태양광: 이들은 빛을 전기로 변환할 수 있는 능력을 바탕으로 태양 전지 및 기타 태양광 장치 개발에 사용될 수 있습니다.
- 합금 및 복합재료: 이러한 결정은 산업 응용을 위해 독특한 특성을 가진 특수 합금이나 복합재료를 생성하는 데 사용될 수 있습니다.
- 광전자: 전기적 및 광학적 특성을 정밀하게 제어해야 하는 광전자 장치에 사용될 가능성이 있습니다.
구리 실리콘 인화물 결정 포장
당사의 구리 실리콘 인화물 결정은 품질 보존을 위해 보관 및 운송 시 신중하게 취급됩니다.
구리 실리콘 인화물 결정 자주 묻는 질문
Q1: 구리 실리콘 인화물(CuSiP)이란 무엇인가요?
구리 실리콘 인화물(CuSiP)은 구리(Cu), 실리콘(Si), 인(P)을 결합한 화합물 결정입니다. 전자 및 태양광 분야에서의 응용으로 인해 반도체 특성으로 잘 알려져 있습니다.
Q2. CuSi₂P₃ 결정의 구조는 무엇인가요?
CuSi₂P₃ 결정은 쉽게 박리될 수 있는 층상 반데르발스(vdW) 구조를 가지고 있습니다.
Q3. CuSi₂P₃ 결정이 열을 받으면 어떻게 되나요?
CuSi₂P₃ 결정은 열 처리되거나 레이저 처리를 받을 경우 2D 금속 및 반금속으로 동작할 것으로 예측됩니다. 이러한 조건에서 SiP 층상 상으로 전환될 수도 있습니다.