PECVD 그래파이트 보트 설명
PECVD 그래파이트 보트는 코팅 공정의 생산 과정에서 일반 실리콘 웨이퍼의 운반체 중 하나입니다. 구조 내에 일정한 간격으로 여러 개의 보트 웨이퍼가 있으며, 두 개의 인접한 보트 웨이퍼 사이에는 매우 좁은 공간이 있습니다. 이 빈 공간의 양쪽에 실리콘 웨이퍼가 배치됩니다. 그래파이트는 좋은 전도성과 열 전도성을 가지고 있으므로, 두 개의 인접한 보트 사이에 AC 전압이 가해져서 양극과 음극이 형성됩니다. 챔버에 특정 압력과 가스가 존재할 때, 두 보트 사이에서 광 방전이 발생합니다. 이 광 방전은 공간 내에서 SiH4와 NH3 가스를 분해하여 Si와 N 이온을 형성하고, 이들이 결합하여 SiNx 분자가 형성되어 실리콘 웨이퍼의 표면에 증착됩니다.
PECVD (플라즈마 강화 화학 기상 증착) 그래파이트 보트는 PECVD 프로세스에서 다양한 기판에 박막을 증착하기 위해 사용되는 특수한 용기 또는 운반체입니다. 반도체 제조 및 박막 증착이 중요한 기타 산업의 맥락에서, 이러한 그래파이트 보트는 기판(예: 실리콘 웨이퍼)을 PECVD 챔버를 통해 이동시키며 증착 공정을 수행합니다.
PECVD 그래파이트 보트 사양
재질
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-
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PECVD 그래파이트
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밀도
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g/cm³
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1.87
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비저항
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μΩm
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13
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굽힘 강도
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MPa
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72
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재
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PPM
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4.7
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CTE
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1E-6/℃
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4.7
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치수 공차
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mm
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±0.01
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열 팽창
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mm
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≤0.2
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입자 크기
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μm
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7
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쇼어 경도
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HSD
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70
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PECVD 그래파이트 보트 응용
- 반도체 제조: 그래파이트 보트는 반도체 제조에서 유전체, 전도체 및 반도체를 포함한 다양한 종류의 박막을 증착하는 데 널리 사용됩니다.
- 태양광 패널: 태양광 전지 생산에서 PECVD 그래파이트 보트는 반사 방지 코팅 및 태양광 전지의 효율을 높이는 다른 층을 증착하는 데 사용됩니다.
- 광전자 공학: 정밀한 광학적 특성이 필요한 부품을 위해 PECVD는 특정 굴절률을 가진 층을 증착하는 데 사용되며, 그래파이트 보트는 이 과정에서 기판을 운반합니다.
PECVD 그래파이트 보트 포장
우리의 PECVD 그래파이트 보트는 제품의 품질이 원래 상태를 유지하도록 보관 및 운송 중에 주의 깊게 다뤄집니다.