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카탈로그 번호. | VD0688 |
재료 | 하프늄 산화물(HfO2) |
순도 | 99.9% ~ 99.99% |
모양 | 태블릿/주문 제작 |
모양 | 미색 단색 |
MSDS/SDS |
당사는 다양한 형태의 하프늄 산화물(HfO2) 증발 물질을 제공합니다. 요청 시 맞춤형 형태도 제공됩니다. Stanford Advanced Materials (SAM)는 고순도 하프늄 산화물 증발 재료 및 다양한 증발 재료를 제조 및 공급하는 선도적인 업체입니다.
관련 제품 하프늄 크리스탈 바, 하프늄 와이어, 하프늄 포일
하프늄 산화물(HfO2) 증착 재료는 박막 증착 공정에서 맞춤형 전기, 광학 또는 유전체 특성을 가진 코팅을 제작하는 데 사용됩니다. 높은 유전율, 열 안정성, 넓은 밴드갭으로 잘 알려진 HfO2 필름은 반도체 제조, 특히 고급 CMOS 트랜지스터의 게이트 유전체 애플리케이션에서 중추적인 역할을 합니다. 또한 하프늄 산화물 필름은 광학 코팅, 하이케이 유전체 및 커패시터 애플리케이션에 사용되어 전자, 광학 및 나노 기술의 발전에 기여하고 있습니다.
재료 유형 |
하프늄 산화물 |
기호 |
HfO2 |
분자량 |
210.49 |
색상/외관 |
오프 화이트 |
녹는점(°C) |
2,810 |
열팽창 계수 |
5.6 x 10-6/K |
이론 밀도(g/cc) |
9.68 |
- 반도체 증착, 화학 기상 증착(CVD) 및 물리적 기상 증착(PVD)을 포함한 하프늄 산화물 박막 증착 공정에 사용됩니다.
- 마모 방지, 장식용 코팅, 디스플레이를 포함한 광학 분야에 사용됩니다.
하프늄 산화물(HfO2) 증발 재료는 보관 및 운송 중 손상을 방지하고 제품의 품질을 원래 상태로 보존하기 위해 세심하게 취급됩니다.
관련 동영상:
재료 유형 |
하프늄 산화물 |
기호 |
HfO2 |
분자량 |
210.49 |
색상/외관 |
오프 화이트 |
녹는점(°C) |
2,810 |
열팽창 계수 |
5.6 x 10-6/K |
이론 밀도(g/cc) |
9.68 |
*위 제품 정보는 이론적인 데이터를 기반으로 하며 참고용입니다. 실제 사양은 다를 수 있습니다.
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