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| 카탈로그 번호. | IF5687 |
| 항목 번호 | OTF-1200X-4-RTP |
| 작동 온도 | 1000℃ 연속 |
| 작동 온도 | ≤ 1100℃, ≤1시간 |
1100C 컴팩트 대기 조절 RTP 노 은(는) 4" I.D. 석영 처리 튜브와 진공 플랜지가 장착된 컴팩트한 고속 열처리 튜브 노입니다. Stanford Advanced Materials (SAM)은(는) 고품질 컴팩트 튜브 노 제조 및 공급에 대한 풍부한 경험을 보유하고 있습니다.
관련 제품: 1100C 컴팩트 하이브리드 노 KSL-1100X-S-H, 1200C 최대 컴팩트 머플 노 및 정밀 TGA 기능 KSL-1200J-TGA, 1000C 컴팩트 하이브리드 노 및 3개 튜브 및 플랜지 KSL-1100X-S3
1100C 컴팩트 대기 제어 RTP 용광로는 4인치 I.D. 석영 처리 튜브와 진공 플랜지가 장착된 컴팩트한 Rapid Thermal Processing 튜브 용광로입니다. 3인치까지의 반도체 웨이퍼 또는 태양광 셀의 어닐링을 위해 특별히 설계되었으며, 정밀한 열처리 기능을 제공합니다.
8개의 1 kW 할로겐 조명으로 가열되며, OTF-1200X-RTP-4는 최대 가열 속도가 50°C/초입니다. +/-1°C의 정확성을 가진 50구간 정밀 온도 조절기가 용광로에 통합되어 있어 다양한 과정 단계에서 가열, 대기 및 냉각을 정밀하게 제어할 수 있습니다.
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특징 |
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작동 온도 |
1100℃ (< 10 분) 1000℃, (<20 분) 800℃, (<120 분)
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기본 매개변수 |
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전력 |
208-240V AC, 12 KW, 50/60 Hz |
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온도 제어 |
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석영 튜브 및 샘플 홀더 |
(AlN은 매우 높은 열전도성을 가지며, 샘플 영역에서 최상의 온도 균일성을 제공합니다. 샘플 홀더는 플랜지에서 분리 가능하여 다른 용도로 RTP 용광로를 사용할 수 있습니다.)
(크루시블은 SiC로 코팅된 흑연 크루시블과 함께 RTE, CSS 또는 HPCVD 용광로로 수정될 수 있습니다.) |
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전체 치수 |
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순중량 |
70 kg |
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보증 |
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인증 |
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우리의 1100C 컴팩트 대기 제어 RTP 용광로 OTF-1200X-4-RTP 는 보관 및 운송 동안 제품의 품질이 원래 상태를 유지하도록 신중하게 처리됩니다.
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특징 |
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작동 온도 |
1100℃ (< 10 분) 1000℃, (<20 분) 800℃, (<120 분)
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기본 매개변수 |
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전원 |
208-240V AC, 12 KW, 50/60 Hz |
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온도 제어 |
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쿼츠 튜브 및 샘플 홀더 |
(AlN은 매우 높은 열전도율을 가지고 있어 샘플 영역의 온도 균일성을 최적화합니다. 샘플 홀더는 플랜지에서 분리할 수 있어 용광로를 다른 목적으로 사용할 수 있습니다.)
(도가니는 SiC로 코팅된 그래파이트 도가니와 함께 RTE, CSS 또는 HPCVD 용광로로 변형할 수 있습니다.) |
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전체 치수 |
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순중량 |
70 kg |
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보증 |
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인증서 |
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*위 제품 정보는 이론적인 데이터를 기반으로 하며 참고용입니다. 실제 사양은 다를 수 있습니다.
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