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Stanford Advanced Materials
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    • ST0334 인듐주석산화물(ITO) 스퍼터링 타겟

    카탈로그 번호. ST0334
    재료 90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2
    순도 >=99.99%
    밀도 7.1g/cm3

    마그네트론 또는 기타 스퍼터링 기술로 증착된 인듐 주석 산화물(ITO) 타겟은 평판 디스플레이용 전극, 터치 패널 접점, 에너지 절약형 자동차 및 건물 유리, 광전자 장치, 태양광 패널 등을 포함한 ITO 코팅 기판에 사용됩니다. 스탠포드 어드밴스드 머티리얼즈는 다양한 치수의 고품질 ITO 타겟을 고객에게 제공합니다.

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    VD0623 구리 인듐(Cu/In) 증착 재료
    VD0691 산화철 인듐(InFe2O4) 증발 재료
    VD0692 산화 인듐(In2O3) 증발 재료
    VD0693 인듐주석산화물(ITO) 증착 재료
    VD0694 산화아연(IZO) 증착 재료
    VD0818 황화 인듐(In2S3) 증착 재료
    VD0844 구리 인듐 셀레나이드(CIS) 증착 재료

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