사파이어 웨이퍼 Al2O3 C-면(0001) 10x10x1 mm 설명
사파이어 웨이퍼 Al2O3 C 평면(0001) 10x10x1mm는 고순도 알루미늄 산화물(Al2O3)로 제조되어 원자적으로 매끄러운 표면을 제공하는 확정된(0001) 배향으로 제작됩니다. 10x10mm 크기와 1mm 두께로 표준 반도체 공정 장비와의 호환성을 보장합니다. 낮은 표면 결함 밀도와 정밀한 결정 정렬은 후속 증착 공정과 소자 제작 정확도를 용이하게 합니다.
사파이어 웨이퍼 Al2O3 C-면(0001) 10x10x1 mm 응용 분야
1.
전자 제품
- 반도체 소자의 기판으로 사용되어 웨이퍼의 균일한 C-면(0001) 배향을 활용하여 제어된 박막 증착을 달성합니다.
- 디스플레이 시스템에서 박막 트랜지스터의 베이스로 적용되어 층 균일성을 일관되게 유지하고 소자 성능을 향상시킵니다.
2.
산업용
- 고온 센서 모듈의 절연층으로 사용되어 안정적인 Al2O3 성분을 활용하여 열팽창 불일치를 줄입니다.
- 정밀 광학 부품 제조에 적용되어 정확한 정렬을 지원하고 결함 밀도가 낮아 표면 산란을 최소화합니다.
사파이어 웨이퍼 Al2O3 C-플레인(0001) 10x10x1mm 포장
웨이퍼는 물리적 손상과 오염을 방지하기 위해 정전기 방지 폼 라이닝 홀더에 밀봉된 용기에 포장되며, 습기로 인한 성능 저하를 방지하기 위해 실온의 건조한 조건에서 보관됩니다. 특정 취급 및 운송 요건을 충족하기 위해 진공 밀봉 파우치 및 배치별 라벨링을 포함한 맞춤형 포장 솔루션을 사용할 수 있습니다.
자주 묻는 질문
Q1: C-면(0001) 방향이 디바이스 제작에 미치는 영향은 무엇인가요?
A1: C 평면(0001) 배향은 박막 접착력을 향상시키고 증착 시 산란을 감소시키는 원자적으로 매끄러운 표면을 제공하여 전반적인 소자 성능을 향상시킵니다.
Q2: 웨이퍼 치수는 기존 공정 장비와의 통합에 어떤 영향을 미칩니까?
A2: 표준화된 10x10mm 크기와 1mm 두께는 일반적인 반도체 공정 툴과의 호환성을 보장하여 다양한 증착 시스템에서 제조 및 정렬 시 효율적인 취급을 용이하게 합니다.
Q3: 웨이퍼 생산 중에는 어떤 품질 관리 조치가 시행되나요?
A3: 웨이퍼는 표면 거칠기를 평가하고 미세 결함을 감지하기 위해 원자력 현미경 및 광학 평가를 포함한 엄격한 검사를 거쳐 기판 특성의 일관성을 보장합니다.
추가 정보
Al2O3로 구성된 사파이어 웨이퍼는 뛰어난 내열성 및 내화학성으로 재료 과학 분야에서 높은 가치를 인정받고 있습니다. 사파이어 웨이퍼의 구조는 전자 및 광학 분야의 고성능 장치에 필수적인 표면 형태를 정밀하게 제어할 수 있게 해줍니다. 연구자들은 안정적인 결정 특성으로 인해 첨단 필름 증착 연구에 이러한 기판을 자주 활용합니다.
결정 배향과 재료 특성 간의 상호 작용을 이해하면 다양한 응용 분야의 기판 선택에 있어 통찰력을 얻을 수 있습니다. 증착 기술과 표면 분석의 발전은 사파이어 웨이퍼의 성능 기능을 지속적으로 개선하여 마이크로 일렉트로닉스에서 포토닉스에 이르는 다양한 기술 분야에 영향을 미치고 있습니다.