사파이어 웨이퍼 Al2O3 C-면(0001) 10x10x1 mm 설명
사파이어 웨이퍼 Al2O3 C-면(0001) 10x10x1mm는 제어된(0001) 방향이 특징인 고순도 알루미나 기판입니다. 10x10mm의 크기와 1mm의 두께로 표준 반도체 장비와 잘 통합됩니다. 화학적 불활성 및 열 안정성으로 인해 디바이스 제조 공정에서 효과적으로 사용할 수 있으며, 전위 밀도가 낮아 중요한 애플리케이션에서 미세 결함을 최소화합니다.
사파이어 웨이퍼 Al2O3 C-플레인(0001) 10x10x1mm 애플리케이션
전자 제품
- 집적 회로 제조의 기판으로 사용되어 웨이퍼의 제어된 결정학적 방향을 활용하여 균일한 필름 증착을 달성함으로써 활성층에서 결함 밀도를 줄입니다.
광학 장치
- 센서 및 레이저 어셈블리의 광학 플랫폼으로 적용되어 고유의 내열성과 화학적 불활성을 활용하여 안정적인 광 투과율을 유지합니다.
사파이어 웨이퍼 Al2O3 C-플레인(0001) 10x10x1mm 포장
각 사파이어 웨이퍼는 기계적 손상을 방지하기 위해 가스 방출이 적은 폼 쿠션이 있는 정전기 방지 용기에 개별적으로 고정되어 있습니다. 웨이퍼는 표면 오염을 최소화하고 평탄도를 유지하기 위해 깨끗하고 습도가 제어되는 환경에 보관됩니다. 포장 옵션에는 특수 구획화 및 습도 표시기가 포함되어 있어 보관 및 운송 중에 적절한 조건을 보장합니다.
자주 묻는 질문
Q1: 기판의 결정학적 방향은 어떻게 확인하나요?
A1: 생산 과정에서 (0001) C-면 정렬을 확인하기 위해 X선 회절(XRD) 분석이 사용됩니다. 이 측정은 정기적인 광학 프로파일링과 함께 결정 방향의 일관성을 보장하고 공정 편차를 최소화합니다.
Q2: 이 웨이퍼에는 어떤 보관 조건이 권장되나요?
A2: 웨이퍼는 20°C에서 25°C 사이의 온도에서 먼지가 없고 습도가 조절되는 환경에 보관해야 합니다. 이러한 조건은 표면 무결성을 유지하고 오염이나 열로 인한 결함을 방지하는 데 도움이 됩니다.
Q3: 특정 애플리케이션에 맞게 웨이퍼 치수를 맞춤화할 수 있나요?
A3: 기판의 제어된 결정학적 특성을 유지하면서 기술적 타당성에 따라 맞춤화 옵션을 탐색할 수 있습니다. 특수 애플리케이션에 대한 생산 수정을 평가하려면 기술 팀과 상담하는 것이 좋습니다.
추가 정보
알루미나(Al2O3)는 경도, 전기 절연성 및 열 안정성으로 높이 평가되는 세라믹 소재입니다. 사파이어의 합성 형태인 이 웨이퍼는 균일하고 결함이 적은 구조를 생성하는 제어된 결정 성장 방법의 이점을 누릴 수 있습니다. 이러한 특성은 계면 불규칙성을 최소화하면서 내구성이 뛰어난 기판을 필요로 하는 애플리케이션에서 매우 중요합니다.
반도체 및 광학 공학에서는 구조적 특성에 대한 명확한 이해가 필수적입니다. 제어된 C 평면 배향은 후속 박막의 정렬을 도와 인터페이스 관련 문제를 줄이고 고정밀 환경에서 향상된 디바이스 성능을 지원합니다.