사파이어 웨이퍼 Al2O3 A 평면(11-20) 10x5x0.5mm 설명
고순도 알루미늄 산화물(Al2O3)로 구성된 사파이어 웨이퍼는 10mm x 5mm x 0.5mm 크기의 A면(11-20)으로 절단되어 있습니다. 특정 결정학적 배향은 전위 밀도를 줄이고 균일한 에피택셜 층 증착을 지원하도록 설계되었습니다. 제어된 구성과 세심한 표면 마감으로 반도체 공정 흐름과 광전자 실험에 정확하게 통합할 수 있어 연구 및 생산 환경에서 성능 일관성을 보장합니다.
사파이어 웨이퍼 Al2O3 A 평면(11-20) 10x5x0.5mm 애플리케이션
전자 및 반도체 공정
- 반도체 제조에서 기판으로 사용하여 웨이퍼의 낮은 전위 밀도를 활용하여 균일한 에피택셜 성장을 달성합니다.
광전자 시스템
- 레이저 및 센서 어셈블리의 마운팅 플랫폼으로 적용하여 제어된 결정 방향을 활용하여 광학 안정성을 향상시킵니다.
과학 연구
- 재현 가능한 치수와 화학적 순도를 활용하여 정밀한 측정 결과를 얻기 위한 결정학 연구의 기준 물질로 사용됩니다.
사파이어 웨이퍼 Al2O3 A 평면(11-20) 10x5x0.5mm 포장
사파이어 웨이퍼는 정전기 방지, 보풀이 적은 파우치에 고정되어 있으며 기계적 손상과 미립자 오염을 방지하기 위해 폼 안감의 견고한 용기로 보호됩니다. 포장 디자인은 보관 및 운송 중 습기 및 환경 오염 물질에 대한 노출을 최소화합니다. 웨이퍼는 온도가 조절되고 습도가 낮은 환경에 보관하는 것이 좋습니다. 요청 시 쿠션과 칸막이가 강화된 맞춤형 포장 솔루션을 추가로 제공할 수 있습니다.
자주 묻는 질문
Q1: 웨이퍼의 표면 균일성을 검증하는 데 어떤 기술이 사용되나요?
A1: 표면 균일성은 간섭계 및 주사 전자 현미경을 사용하여 평가되며, 이는 에피택셜 증착에 중요한 표면 형태 및 결함 분포에 대한 상세한 통찰력을 제공합니다.
Q2: 제작 과정에서 A 평면(11-20) 방향은 어떻게 유지되나요?
A2: X선 회절 분석으로 확인된 정밀한 절단 및 정렬 절차를 통해 방향을 제어하여 고성능에 적합한 일관된 결정면을 보장합니다.
Q3: 웨이퍼 무결성을 보호하기 위해 어떤 보관 조건이 권장되나요?
A3: 웨이퍼는 오염을 완화하고 물리적 또는 화학적 성능 저하를 방지하기 위해 적절한 정전기 방지 보호 기능을 갖춘 온도 조절이 가능한 저습도 환경에 보관해야 합니다.
추가 정보
사파이어 또는 알루미늄 산화물(Al2O3)은 뛰어난 열 안정성과 화학적 불활성으로 잘 알려져 있습니다. 이러한 특성으로 인해 반도체 및 광전자 애플리케이션에 사용되는 기판의 핵심 소재로 사용됩니다. 결정 구조는 에피택셜 성장 중 격자 불일치를 최소화하여 고성능 디바이스 개발에 필수적입니다.
재료 가공의 발전으로 결정학적 방향과 표면 마감에 대한 제어가 개선되었습니다. 이러한 특성을 이해하면 다양한 처리 조건에서 기판 거동에 대한 귀중한 통찰력을 얻을 수 있으므로 복잡한 산업 애플리케이션에서 전반적인 소자 성능과 신뢰성을 향상시킬 수 있습니다.