AL10310 4인치 실리콘 4인치 x 500nm에 도핑되지 않은 질화 알루미늄 AlN 템플릿

카탈로그 번호.	AL10310
재료	AlN, Si
크기	4 x 500nm

4인치 실리콘에 도핑되지 않은 질화알루미늄 4인치 x 500nm 템플릿은 4인치 실리콘 웨이퍼에 첨단 증착 기술을 사용하여 제작되어 결정학적 방향이 제어된 500nm 두께의 AlN 필름을 보장합니다. Stanford Advanced Materials(SAM)는 품질 평가를 위해 보정된 반도체 공정과 주사 전자 현미경(SEM)을 활용합니다. 생산 제어는 미세 구조적 결함을 최소화하여 정밀도가 필수적인 반도체 애플리케이션에서 반복 가능한 공정을 지원합니다.

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사양	세부 정보
재질	AlN, Si
크기	4"x 500nm
사용 면적	90%
공칭 AlN 두께	500nm ±10%, 한 면 코팅, 도핑되지 않은 AlN 필름
전면 표면	성장한 상태
후면 표면	받은 대로 실리콘
AlN 방향	C-플레인(00.1)
매크로 결함 밀도	<10/cm^2
웨이퍼 베이스	실리콘 [111] P형, 4" 직경 x0.5mm, , 한쪽면 광택, R<5옴.cm

AL10310 4인치 실리콘 4인치 x 500nm에 도핑되지 않은 질화 알루미늄 AlN 템플릿

4인치 실리콘에 도핑되지 않은 질화알루미늄 AlN 템플릿 4인치 x 500nm 설명

4인치 실리콘 4인치 x 500nm 애플리케이션의 도핑되지 않은 질화 알루미늄 AlN 템플릿

4인치 실리콘 4인치 x 500nm 패키징에 도핑되지 않은 질화 알루미늄 AlN 템플릿

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