CY11156 이리듐(Ir) 코팅 유리

카탈로그 번호.	CY11156
재료	이리듐, 붕규산
순도	Ir: ≥99.9%
양식	기판

이리듐(Ir) 코팅 유리는 표면에 얇은 이리듐 필름이 적용된 유리 기판입니다. Stanford Advanced Materials(SAM)는 코팅 균일성을 유지하기 위해 제어된 증착 기술과 전자 현미경을 이용한 엄격한 표면 검사를 사용합니다. 이 공정은 오염을 최소화하고 반도체 공정에서 요구되는 엄격한 재료 특성을 준수합니다. 박막 균일성에 대한 SAM의 특별한 전문성은 공정 중 계측을 통해 검증되어 유리 기판의 일관된 성능을 지원합니다.

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이리듐 코팅은 반도체 공정 중 광학적 거동에 어떤 영향을 미칩니까?

이리듐 층은 반사율을 제어하고 화학적 공격에 대한 장벽을 제공하여 포토리소그래피 중에 일관된 광학 반응을 달성하는 데 도움이 됩니다. 이리듐의 균일한 증착은 공정 안정성을 유지하는 데 매우 중요합니다.

유리 기판에 이리듐을 증착하는 동안 어떤 공정 제어가 필요합니까?

증착 공정은 온도, 압력, 주변 가스 성분을 엄격하게 제어해야 합니다. 사소한 편차도 필름 접착력과 균일성에 영향을 미쳐 후속 반도체 공정 단계에 영향을 미칠 수 있습니다.

특정 용도에 맞게 이리듐 코팅의 두께를 맞춤화할 수 있나요?

예, 정밀한 제조 요구 사항을 충족하도록 코팅 두께를 조정할 수 있습니다. 특정 공정 요건에 맞게 광학 및 차단 특성을 최적화하기 위해 맞춤형 구성이 가능합니다. 자세한 내용은 당사에 문의하세요.

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파라미터	값
재질	이리듐, 보로실리케이트
순도	Ir: ≥99.9%
형태	기판
치수	25751mm
접착층	티타늄(30Å)
Ir 두께	1000 Å
코팅 면적	단일 크기(또는 맞춤형)

매개변수	값
재질	이리듐, 붕규산
순도	Ir: ≥99.9%
형태	기판
치수	25751mm
접착층	티타늄(30Å)
Ir 두께	1000 Å
코팅 면적	단일 크기(또는 맞춤형)

CY11156 이리듐(Ir) 코팅 유리

이리듐(Ir) 코팅 유리 설명

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이리듐 코팅은 반도체 공정 중 광학적 거동에 어떤 영향을 미칩니까?

유리 기판에 이리듐을 증착하는 동안 어떤 공정 제어가 필요합니까?

특정 용도에 맞게 이리듐 코팅의 두께를 맞춤화할 수 있나요?

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