알루미늄 산화물 사파이어 크리스탈 기판, Al2O3 C-면(0001) 10 x 10 x 0.5mm 설명
정밀한 10 x 10 x 0.5mm 치수의 Al2O3 C-면(0001) 방향의 알루미늄 산화물 사파이어 크리스탈 기판으로 탁월한 성능과 안정성을 경험하세요. 뛰어난 경도와 높은 열전도율로 잘 알려진 이 사파이어 기판은 뛰어난 기계적 강도와 화학적 불활성을 제공하므로 첨단 반도체, 광전자 및 고온 애플리케이션에 이상적인 선택이 될 수 있습니다. 자외선부터 근적외선 범위의 광학적 투명성과 우수한 유전체 특성으로 다양한 연구 및 산업 프로젝트에서 활용도가 더욱 확대됩니다.
엄격한 품질 관리 하에 제조되는 각 기판은 엄격한 연마 공정을 거쳐 표면 거칠기를 최소화하고 최적의 평탄도를 보장합니다. 이를 통해 에피택셜 성장을 위한 안정적인 플랫폼과 생산 주기 전반에 걸쳐 일관된 성능을 보장합니다. 가장 높은 업계 표준을 충족하고 까다로운 기술 환경에서도 뛰어난 결과를 달성하는 소니의 사파이어 크리스탈 기판을 믿으세요.
알루미늄 산화물 사파이어 크리스탈 기판, Al2O3 C-평면(0001) 10 x 10 x 0.5mm 애플리케이션
알루미늄 산화물 사파이어 결정 기판인 Al2O3 C-플레인(0001) 10 x 10 x 0.5mm는 뛰어난 열 안정성, 뛰어난 기계적 강도 및 높은 광학적 선명도로 높은 평가를 받고 있습니다. 독특한 결정 구조로 격자 불일치를 최소화하여 박막 성장 공정에 이상적입니다. 이러한 특성이 결합되어 까다로운 조건에서도 안정적인 성능을 발휘하여 다양한 산업, 연구 및 상업용 애플리케이션을 지원합니다.
1. 산업 응용 분야
- 애플리케이션 1: 기판의 우수한 열전도율과 안정성을 활용하는 고온로 라이너.
- 애플리케이션 2: 경도와 내구성이 중요한 중장비 기계의 내마모성 부품.
2. 연구용 애플리케이션
- 응용 분야 1: 반도체 연구에서 에피택셜 필름 성장을 위한 기판으로, 결정의 낮은 격자 불일치의 이점을 활용합니다.
- 응용 분야 2: 높은 광학적 선명도와 일관된 굴절률을 활용하여 첨단 광학 연구를 위한 플랫폼.
3. 상업적 응용 분야
- 응용 분야 1: 투명하고 긁힘에 강한 표면을 제공하는 항공 우주 계측용 사파이어 윈도우.
- 응용 분야 2: 효율적인 열 방출과 안정적인 성능을 보장하는 LED 장치 제조 기판.
알루미늄 산화물 사파이어 결정 기판, Al2O3 C-면(0001) 10 x 10 x 0.5mm 패키징
각 산화 알루미늄 사파이어 크리스탈 기판은 미립자 오염을 방지하기 위해 깨끗한 정전기 방지 폴리에틸렌 백에 개별적으로 밀봉한 다음 기계적 손상을 방지하기 위해 폼 안감 보관 상자에 고정합니다. 서늘하고 건조하며 먼지가 없는 환경, 가급적 클린룸 조건에서 보관해야 합니다. 특수한 용도에 맞게 요청 시 맞춤형 라벨링 및 추가 보호 장벽을 사용할 수 있습니다. 각 기판은 최적의 순도를 유지하기 위해 명확한 취급 지침과 함께 배송됩니다.
포장: 진공 밀봉, 나무 상자 또는 맞춤형.
알루미늄 산화물 사파이어 크리스탈 기판, Al2O3 C-평면(0001) 10 x 10 x 0.5mm FAQ
Q1: 알루미늄 산화물 사파이어 크리스탈 기판, Al2O3 C-Plane (0001) 10 x 10 x 0.5mm의 주요 재료 특성은 무엇입니까?
A1: C- 평면(0001) 방향의 알루미늄 산화물 사파이어(Al2O3)는 자외선부터 근적외선 파장까지 뛰어난 광학 투명도를 나타냅니다. 높은 열전도율(25-35W/m-K)과 모스 척도 9의 경도 등급으로 뛰어난 내마모성과 치수 안정성을 제공합니다. 유전 상수는 일반적으로 약 11.5 - 11.6으로, 까다로운 전자 및 광전자 애플리케이션에 적합합니다. 또한 열악한 환경에서도 뛰어난 화학적 안정성을 보여줍니다.
Q2: 이 제품은 어떻게 취급하고 보관해야 하나요?
A2: 오염과 표면 손상을 방지하기 위해 기판은 깨끗한 장갑이나 비금속 핀셋으로만 취급해야 합니다. 미세한 흠집이 생길 수 있는 딱딱하거나 마모성이 있는 표면과의 접촉을 피하는 것이 중요합니다. 기판은 상온의 깨끗하고 습도가 낮은 환경에 보관해야 하며, 가급적 밀폐된 용기나 정전기 방지 봉투에 보관하는 것이 좋습니다. 정기적인 검사를 통해 잠재적인 칩, 균열 또는 오염을 조기에 발견할 수 있습니다.
Q3: 산화알루미늄 사파이어 크리스탈 기판, Al2O3 C-Plane(0001) 10 x 10 x 0.5mm에는 어떤 품질 표준 및 인증이 적용되나요?
A3: 이러한 기판은 일관된 제조 및 추적성을 보장하기 위해 ISO 9001 품질 관리 시스템을 준수하는 경우가 많습니다. 또한 공급업체는 유해 물질 함량이 낮음을 나타내는 RoHS 및 REACH 지침 준수를 확인하는 문서를 제공할 수도 있습니다. 또한 기판은 X-선 회절 및 광학 검사를 통해 결정 품질과 방향 정확도에 대한 엄격한 특성 분석을 거쳐 검증됩니다. 이러한 요건을 검증하기 위해 일반적으로 적합성 인증서가 배송과 함께 제공됩니다.
관련 정보
1. 재료 특성 및 장점
알루미늄 산화물 사파이어 크리스탈 기판, Al2O3 C-Plane (0001) 10 x 10 x 0.5mm는 탁월한 경도와 뛰어난 광학적 선명도가 특징입니다. 열전도율이 높고 유전 손실이 적기 때문에 이 기판은 특히 고주파 장치 애플리케이션에 적합합니다. 단결정 구조로 내부 결함을 줄여 까다로운 환경에서도 일관된 성능을 보장하고 취급 중 균열 발생 가능성을 최소화합니다.
엔지니어들은 고온에서도 대부분의 산과 알칼리에 견디는 사파이어 기판의 뛰어난 화학적 안정성을 높이 평가합니다. 이러한 내구성은 표면 위에 제작된 기기의 작동 수명 연장으로 이어져 신뢰성이 가장 중요한 산업에서 최고의 선택이 될 수 있습니다. 기계적 복원력, 투명도, 화학적 불활성이 결합된 이 기판은 광전자에서 항공우주 시스템에 이르기까지 다양한 분야에서 신뢰할 수 있는 솔루션으로 자리매김하고 있습니다.
2. 제조 공정
고정밀 성장 기술은 Al2O3 C-Plane(0001) 10 x 10 x 0.5mm 기판 생산에 필수적입니다. 선도적인 제조업체들은 사파이어 잉곳의 형성을 고도로 제어할 수 있는 Kyropoulos 또는 Czochralski 크리스탈 풀링 공정과 같은 방법을 자주 활용합니다. 이러한 공정은 전위를 최소화하고 일관된 품질을 보장하는 데 필요한 균일한 결정 구조를 만들어냅니다.
그런 다음 기업들은 고급 슬라이싱, 연마 및 세척 프로토콜을 사용하여 C-면(0001)의 방향 정확도를 유지하면서 원하는 두께인 0.5mm를 달성합니다. 정교한 연마 단계는 표면 거칠기를 최소화하여 에피택셜 레이어의 인터페이스 품질을 최적화하고 반도체 및 광학 애플리케이션의 수율을 개선합니다.
사양
웨이퍼 크기
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10 x 10 x 0.5mm
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방향 허용 오차
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±0.5°(C-플레인 방향)
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폴리싱 표면
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CMP를 통해 폴리싱된 EPI, RA <8Å
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결정 구조
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육면체, a = 4.758 Å, c = 12.99 Å
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크리스탈 순도
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> 99.99%
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밀도
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3.97 g/cm³
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녹는점
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2040 °C
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경도(모스)
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9
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열 팽창
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7.5 × 10-⁶ / °C
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열 전도성
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46.06 W/(m-K) @ 0°C; 25.12 @ 100°C; 12.56 @ 400°C
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유전 상수
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~9.4 @ 300K(A축); ~11.58 @ 300K(C축)
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탄젠트 손실 @10GHz
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< 2 × 10-⁵(A축); < 5 × 10-⁵(C축)
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*위 제품 정보는 이론적인 데이터를 기반으로 하며 참고용입니다. 실제 사양은 다를 수 있습니다.