CY8502 LAO(LaAlO3) 란탄 알루미네이트 결정 기판(100) 5x5x0.5mm

LAO(LaAlO3) 란탄 알루미네이트 결정 기판(100) 5x5x0.5mm 설명

LAO(LaAlO₃) 란탄산알루미늄 결정 기판(100) 5×5×0.5mm는 고급 박막 증착을 위한 매우 안정적이고 고품질의 플랫폼을 제공합니다. 페로브스카이트 구조는 격자 매칭이 우수하여 다양한 산화물과 복잡한 다층 소자를 성장시키는 데 이상적입니다. 열 안정성이 뛰어나고 열팽창 불일치가 최소화되어 초전도체, 강유전체 및 고온 전자제품의 에피택셜 성장에 자주 선택되는 LAO 기판입니다.

엄격한 품질 기준에 따라 제조된 각 기판은 정밀한 절단 및 연마 과정을 거쳐 매끄럽고 결함 없는 표면을 보장합니다. 이 세심한 공정은 에피택셜 필름 품질을 극대화하고 연구 개발 또는 산업 환경에서 일관성을 유지하는 데 도움이 됩니다. LAO(100) 기판의 일관된 결정 방향과 엄격한 치수 공차는 재현 가능하고 효율적인 제조 워크플로우를 지원하여 다양한 첨단 소재 응용 분야에서 신뢰할 수 있는 결과물을 제공합니다.

LAO(LaAlO3) 란탄산알루미네이트 결정 기판(100) 5x5x0.5mm 애플리케이션

란탄 알루미네이트(LaAlO₃) 단결정 기판은 뛰어난 열 안정성, 낮은 유전 손실, 고급 에피택셜 성장을 위한 뛰어난 격자 매칭을 제공합니다. 이러한 특성으로 인해 고주파 전자 장치, 초전도체 및 정밀 박막 증착에 특히 적합합니다. 신뢰할 수 있는 화학적 불활성 및 열팽창 불일치를 최소화하는 LaAlO₃ 기판은 복잡한 제조 환경에서 디바이스 성능, 수명 및 전반적인 재료 무결성을 향상시키는 견고한 플랫폼을 제공합니다.

1. 산업 응용 분야

-박막 증착: 일관된 격자 및 열 안정성은 집적 회로를 위한 안정적인 박막 코팅을 지원합니다.

-초전도체 제조: 이러한 기판은 효율적이고 안정적인 초전도 층을 생산하는 데 중요한 매끄러운 인터페이스 형성을 가능하게 합니다.

2. 연구 응용 분야

-고급 재료 탐색: 연구자들은 새로운 페로브스카이트 구조와 기타 산화물 기반 소재를 연구하기 위해 LaAlO₃ 기판을 활용합니다.

-양자 전자 개발: 유전 손실이 적고 결정 품질이 높아 극저온에서 양자 현상을 연구하는 데 이상적입니다.

3. 상업적 응용 분야

-고주파 장치: LaAlO₃의 고유한 특성은 통신 부품의 성능과 신호 무결성을 향상시킵니다.

-센서 기술: 내구성과 내화학성을 갖춘 이 기판은 환경 및 산업 모니터링을 위한 견고한 센서를 지원합니다.

LAO(LaAlO3) 란탄 알루미네이트 결정 기판(100) 5x5x0.5mm 패키징

LAO(LaAlO₃) 란탄산알루미늄 5×5×0.5mm 기판은 쿠션 폼 인서트가 있는 먼지가 없는 밀폐 용기에 꼼꼼하게 포장되어 기계적 충격을 최소화합니다. 비마모성 랩과 진공 밀봉 파우치는 습기와 공기 중 오염 물질로부터 보호합니다. 서늘하고 건조한 환경에 보관하여 표면 순도를 유지합니다. 다양한 수량 또는 특수한 취급 요건을 충족하는 맞춤형 포장 솔루션을 사용할 수 있습니다.

포장: 진공 밀봉, 나무 상자 또는 맞춤형.

LAO(LaAlO3) 란탄산알루미네이트 결정 기판(100) 5x5x0.5mm FAQ

Q1: LAO (LaAlO3) 란탄산알루미네이트 크리스탈 기판(100) 5x5x0.5mm의 주요 재료 특성은 무엇입니까?

A1: LaAlO3(LAO)는 격자 상수가 약 3.79Å인 단결정 페로브스카이트 구조로 에피택셜 박막에 매우 적합합니다. 낮은 열팽창 계수(약 10×10^-6/K)와 높은 화학적 안정성은 소자의 신뢰성을 향상시킵니다. 또한, LAO는 적당한 유전율(~24)과 우수한 표면 품질을 보여 고품질 인터페이스를 구현할 수 있습니다. 누설 전류가 낮고 결함 밀도가 최소화되어 첨단 광전자 및 에피택셜 애플리케이션에 이상적입니다.

Q2: 이 제품은 어떻게 취급하고 보관해야 하나요?

A2: 깨지기 쉬운 결정질 특성으로 인해 LAO 기판은 보풀이 없는 깨끗한 장갑이나 특수 핀셋으로 표면 긁힘과 불순물을 방지하여 취급해야 합니다. 습기 흡수를 최소화하기 위해 진공 밀폐 용기나 불활성 대기에 보관하는 것이 이상적이며, 건조하고 먼지가 없는 환경에 보관하세요. 단단한 표면과의 직접적인 접촉을 피하고 구조적 무결성을 보존하기 위해 안정적인 온도를 유지하세요. 증착 또는 처리 단계 전에 표면 청결 상태를 정기적으로 검사하는 것이 좋습니다.

Q3: LAO(LaAlO3) 란탄 알루미네이트 크리스탈 기판(100) 5x5x0.5mm에는 어떤 품질 표준 및 인증이 적용되나요?

A3: 고품질 LAO 기판은 일반적으로 품질 관리를 위한 ISO 9001 표준을 준수하여 일관된 제조 및 추적성을 보장합니다. 또한 환경 및 화학물질 안전에 대한 RoHS 및 REACH 규정을 충족하는 경우가 많습니다. 또한 엄격한 결정 검사 프로토콜을 통해 물리적 치수, 표면 평탄도 및 결정 방향 정확도를 검증합니다. 일반적으로 요청 시 방향 허용 오차 및 화학 성분에 대한 문서가 제공됩니다.

관련 정보

1. 재료 특성 및 장점

안정적인 페로브스카이트 구조로 이루어진 5x5x0.5mm 크기의 LAO(LaAlO3) 란탄 알루미네이트 결정 기판(100)은 뛰어난 열적 및 화학적 안정성을 보여줍니다. 이 컴팩트한 기판은 정확한 방향(100)의 이점을 활용하여 다양한 박막 재료와 일관된 격자 매칭을 보장합니다. 높은 유전율과 우수한 절연 특성으로 까다로운 시나리오에서도 안정적인 성능을 유지하므로 마이크로 일렉트로닉스 및 고주파 부품 연구에 탁월한 선택이 될 수 있습니다.

고급 에피택셜 성장을 위해 맞춤화된 이 LAO 결정질 기판은 또한 뛰어난 기계적 강도와 낮은 결함 밀도로 제작 중 필름 결함의 위험을 줄여줍니다. 일관된 표면 연마는 우수한 기판-필름 인터페이스 균일성을 보장하여 고품질 디바이스 제조를 가능하게 합니다. 이러한 장점 덕분에 LAO(LaAlO3) 5x5x0.5mm 기판은 결정 정밀도가 가장 중요한 최첨단 애플리케이션의 핵심 구성 요소로 자리매김했습니다.

2. 첨단 산업에서의 응용 분야

여러 분야에서 혁신을 선도하는 LAO(LaAlO3) 란탄 알루미네이트 결정 기판(100) 5x5x0.5mm는 고온 초전도 장치 개발에 없어서는 안 될 필수 요소로 자리 잡았습니다. 연구자와 엔지니어들은 이 기판의 호환성을 활용하여 YBCO(이트륨 바륨 구리 산화물) 필름을 증착하여 양자 컴퓨팅과 강력한 자기 공명 이미징 기술의 획기적인 발전을 가능하게 합니다. 이 다용도 기판은 실리콘 기반 IC 설계 및 제조에도 사용되어 표준 반도체 공정과의 통합을 간소화할 수 있습니다.

강유전체 및 압전층과의 호환성으로 인정받는 LAO 기판은 최소한의 전력 소비로 센서, 트랜스듀서 및 특수 필터를 제작할 수 있습니다. 많은 고성능 무선 통신 시스템은 LaAlO3의 뛰어난 음향 특성에 의존하여 안정적이고 광범위한 신호 전송을 달성합니다. 업계에서 더 높은 정밀도와 환경 내구성을 요구함에 따라 LAO(100) 기판의 견고성, 균일성 및 유연성은 진화하는 하이테크 환경에서 초석 소재로서의 역할을 확인시켜 줍니다.