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FE10669 철 실리콘 붕소 표적(FeSiB 표적)

카탈로그 번호.	FE10669
구성	Fe, Si, B
치수	사용자 지정
양식	Target

철 실리콘 붕소 타겟(FeSiB 타겟)은 증착 특성을 최적화하는 실리콘 및 붕소 첨가 제어가 가능한 철 기반 페로 합금 타겟입니다. Stanford Advanced Materials(SAM)는 스퍼터링 공정 모니터링 시 고해상도 분광법을 사용하여 균일한 조성 분포를 보장합니다. 상세한 미세 구조 분석과 현장 방출 측정을 통해 목표 일관성을 검증합니다. 이러한 체계적인 품질 관리는 변동을 최소화하여 연구 및 산업 응용 분야에서 정밀한 박막 제작을 지원합니다.

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FAQ

실리콘과 붕소 첨가는 타겟의 스퍼터링 성능에 어떤 영향을 미칩니까?

철 매트릭스에 실리콘과 붕소를 포함하면 미세 구조를 개선하고 스퍼터링 중에 필름 접착 특성을 수정할 수 있습니다. 이러한 요소는 타겟 에로젼 균일성을 개선하고 증착 속도를 제어하여 기판 전체에 일관된 박막층을 형성하는 데 도움이 됩니다.

타겟을 생산하는 동안 어떤 품질 관리 방법이 구현되나요?

SAM은 생산 후 미세 구조 분석과 결합된 현장 광학 방출 분광법을 활용하여 합금 일관성을 모니터링합니다. 이러한 기술은 조성 변화를 조기에 감지하여 각 타겟이 반복 가능한 증착 성능에 필수적인 균질성을 유지할 수 있도록 도와줍니다.

특정 증착 공정에 맞게 타겟 구성을 조정할 수 있나요?

예, 합금 조성은 특정 공정 요건을 충족하도록 조정할 수 있습니다. 고객은 증착 속도 및 필름 균일성과 같은 매개변수를 최적화하기 위해 실리콘 또는 붕소 레벨의 수정을 요청할 수 있습니다. 자세한 커스터마이징 세부 정보 및 기술 지원은 당사에 문의하세요.

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