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    • SM11452 실리콘 스페이서

    카탈로그 번호. SM11452
    재료 실리콘
    치수 사용자 지정
    양식 스페이서

    실리콘 스페이서는 스퍼터링 타겟 애플리케이션을 위해 실리콘으로 제조된 스페이서 요소입니다. Stanford Advanced Materials(SAM)는 열화상 및 레이저 프로파일 측정법을 사용하여 치수 균일성을 검증합니다. 이 공정에는 편차를 감지하는 인라인 단면 SEM 분석이 포함되어 있어 스페이서가 일관되게 중요한 허용 오차를 충족하는지 확인합니다. SAM의 체계적인 재료 특성 측정 접근 방식은 정밀 스퍼터링 공정에 필수적인 명확한 치수 및 열 벤치마크를 제공합니다.

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    FAQ

    실리콘 스페이서는 일관된 필름 증착에 어떻게 기여하나요?

    스페이서는 스퍼터링 타겟과 기판 사이의 간격을 균일하게 유지합니다. 안정적인 실리콘 구성으로 열 사이클링 중 치수 변동을 최소화하여 균일한 필름 증착을 보장합니다.

    스페이서에 대해 어떤 생산 공차가 유지되나요?

    SAM은 레이저 계측 및 광학 검사를 활용하여 중요한 치수 공차를 제어합니다. 이러한 정밀도는 일관된 스퍼터링 작업에 필수적인 편차를 최소화합니다.

    스페이서 소재가 일반적인 스퍼터링 공정 조건을 견딜 수 있습니까?

    예, 실리콘 소재는 표준 스퍼터링 조건에서 낮은 열팽창과 화학적 불활성을 나타내므로 다양한 공정 온도 및 환경과의 호환성을 보장합니다. 자세한 내용은 문의해 주세요.

    마지막 추천

    https://www.samaterials.com/images/sc/1768529895-normal-ST0007.jpg
    ST0007 칼슘 (Ca) 스퍼터링 타겟
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    Lanthanum (La) Sputtering Target
    ST0024 란탄(Lanthanum, La) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Magnesium (Mg) Sputtering Target
    ST0028 마그네슘 (Mg) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Molybdenum Sputtering Target 99.95%, Dia. 6 inch
    ST0030 몰리브덴(Mo) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Neodymium (Nd) Sputtering Target
    ST0031 네오디뮴(Nd) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Niobium (Nb) Sputtering Target
    ST0033 니오븀(Nb) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Praseodymium (Pr) Sputtering Target
    ST0036 프라세오디뮴(Pr) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Niobium Target, Nb Target
    NB0036 니오븀 타겟, Nb 타겟
    비교에 추가

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