ST11165 은색 평면 타겟, Ag 타겟

카탈로그 번호.	ST11165
구성	Ag
순도	≥99.99%
양식	Target
모양	직사각형
치수	사용자 지정

은 평면 타겟, Ag 타겟은 효과적인 박막 증착을 위해 고순도 은과 평평한 평면 표면으로 제조된 은 스퍼터링 타겟입니다. Stanford Advanced Materials(SAM)는 생산 과정에서 분광 분석과 SEM 이미징을 사용하여 미세 구조의 일관성을 모니터링합니다. 이 품질 관리 프로세스는 불순물과 치수 변화를 최소화하여 제어된 증착 특성이 필요한 응용 분야에서 타겟의 성능을 보장합니다. SAM의 시설에는 정밀한 치수 검증을 위한 레이저 스캐닝도 통합되어 있습니다.

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FAQ

은 스퍼터링 타겟을 사용할 때 어떤 공정 고려 사항이 중요합니까?

핵심 요소로는 깨끗한 타겟 표면을 유지하고 스퍼터링 챔버의 온도와 압력을 제어하는 것이 있습니다. 전자 현미경을 이용한 정기적인 검사는 표면 균일성을 보장하고 잠재적인 증착 결함을 최소화하는 데 도움이 됩니다. 자세한 공정 최적화 전략은 당사에 문의하세요.

미세 구조가 은 스퍼터링 타겟의 성능에 어떤 영향을 미칩니까?

균일한 미세 구조는 국부적인 침식을 줄이고 균일한 박막 증착을 보장하여 스퍼터링 일관성을 향상시킵니다. 입자 크기의 변화는 스퍼터링 속도와 박막 균일성에 영향을 미칠 수 있습니다. SEM 및 프로파일 측정법을 사용하면 고성능 애플리케이션을 위한 타겟 무결성을 검증할 수 있습니다.

은 스퍼터링 타겟을 작동하기 전에 권장되는 세척 프로토콜은 무엇입니까?

일반적인 절차에는 표면 산화물과 오염 물질을 제거하기 위한 솔벤트 세정 및 플라즈마 전처리가 포함됩니다. 이러한 방법은 필름 접착력과 증착 품질을 향상시킵니다. 성능을 보호하기 위해 분광 분석을 통한 정기적인 표면 검사를 권장합니다.

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특성	값
구성	Ag
순도	≥99.99%
형태	표적
모양	직사각형
치수	두께 ≥1mm, 맞춤형
밀도	10.^5g/cm3
스퍼터링 방법	DC
열 전도성	430 W/m.K
융점	962℃
열팽창 계수	18.9 x ^10-6
결합 유형	인듐, 엘라스토머

속성	값
구성	Ag
순도	≥99.99%
형태	표적
모양	직사각형
치수	두께 ≥1mm, 맞춤형
밀도	10.^5g/cm3
스퍼터링 방법	DC
열 전도성	430 W/m.K
융점	962℃
열팽창 계수	18.9 x ^10-6
결합 유형	인듐, 엘라스토머

ST11165 은색 평면 타겟, Ag 타겟

은 평면 타겟, Ag 타겟 설명

은 평면 타겟, Ag 타겟 특성

은 평면 타겟, Ag 타겟 응용 분야

은 평면 타겟, Ag 타겟 포장

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미세 구조가 은 스퍼터링 타겟의 성능에 어떤 영향을 미칩니까?

은 스퍼터링 타겟을 작동하기 전에 권장되는 세척 프로토콜은 무엇입니까?

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