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ST11172 알루미늄 아연 인듐 실리콘 평면 타겟, AlZnInSi 타겟

카탈로그 번호.	ST11172
구성	Al, Zn, In, Si
순도	≥90%
양식	Target
모양	직사각형
치수	사용자 지정

알루미늄 아연 인듐 실리콘 평면 타겟, AlZnInSi 타겟은 스퍼터링 응용 분야에서 일관된 다원소 구성을 보장하는 제어된 합금 공정을 사용하여 생산됩니다. Stanford Advanced Materials(SAM)는 전자 현미경을 이용한 체계적인 원소 분석과 표면 형태 검사를 통해 조성 균일성을 검증합니다. 이 제품은 정밀한 합금 비율을 유지하기 위해 엄격한 공정 제어를 통해 제조되어 첨단 박막 증착 시스템의 까다로운 요구 사항을 충족합니다.

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FAQ

AlZnInSi 타겟을 사용할 때 어떤 스퍼터링 시스템 파라미터를 고려해야 합니까?

타겟은 증착 속도를 최적화하기 위해 전력 밀도와 작동 압력을 조정해야 합니다. 작업자는 스퍼터링 시스템을 타겟의 맞춤형 치수에 맞게 보정하여 균일한 필름 성장과 제어된 원소 분포를 보장해야 합니다.

다중 요소 구성이 증착 균일성에 어떤 영향을 미칩니까?

통합된 합금 원소는 타겟 표면 전체에 걸쳐 균형 잡힌 스퍼터링 수율을 제공합니다. 이 구성은 필름 증착 시 국부적인 변화를 최소화하여 반도체 소자 제작에 필수적인 일관된 층 두께와 구성을 보장합니다.

대상 표면을 유지하기 위해 권장되는 특정 청소 프로토콜이 있나요?

비마모성 용제를 사용하여 정기적으로 세척하고 엄격한 입자 제어를 권장합니다. 적절한 취급은 표면 오염을 최소화하고 타겟의 평면 무결성을 보존하여 고정밀 스퍼터링 애플리케이션에서 성능을 유지합니다.

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