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ST11173 인산나트륨 스퍼터링 타겟, Na3PO4 타겟

카탈로그 번호.	ST11173
구성	Na3PO4
모양	라운드
양식	Target
순도	≥99.9%

인산나트륨 스퍼터링 타겟, Na3PO4 타겟은 균질성을 유지하기 위해 제어된 조건에서 처리된 고순도 인산나트륨 성분을 사용하여 설계되었습니다. 스탠포드 어드밴스드 머티리얼즈(Stanford Advanced Materials, SAM)는 타겟의 미세 구조를 모니터링하기 위해 X-선 회절 및 표면 무결성 테스트를 포함한 엄격한 재료 특성화를 사용합니다. 이 접근 방식은 스퍼터링 공정 중 결함을 최소화하고 다양한 증착 애플리케이션에서 일관된 필름 형성을 지원합니다.

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FAQ

인산나트륨의 화학적 농도가 필름 증착에 어떤 영향을 미치나요?

균일한 화학 성분은 스퍼터링 중 변화를 최소화하여 박막 두께와 특성을 일정하게 유지합니다. 이렇게 제어된 구성은 전자 및 광학 분야의 정밀 애플리케이션에 필수적인 일관된 박막 품질을 달성하는 데 도움이 됩니다.

이 타겟을 사용하는 스퍼터링 장비에는 어떤 유지보수 관행이 권장됩니까?

스퍼터링 챔버를 정기적으로 청소하고 타겟 침식을 모니터링하는 것이 좋습니다. 증착 성능을 최적화하고 장비 수명을 연장하기 위해 안정적인 진공 환경을 유지하고 주기적으로 타겟의 표면 이상을 검사합니다.

다양한 스퍼터링 시스템에 맞게 타겟 치수를 사용자 정의할 수 있습니까?

예, 특정 시스템 크기와 프로세스 요구 사항을 충족하기 위한 사용자 지정 옵션이 있습니다. 자세한 사용자 지정 문의는 문의해 주세요.

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