크롬 평면 타겟, Cr 타겟 설명
크롬 평면 타겟, Cr 타겟은 고순도 크롬 금속으로 만든 스퍼터링 소스입니다. 균일한 박막 형성을 위해 물리적 기상 증착 공정에 사용하도록 설계되었습니다. 평면형 구성으로 일관된 재료 출력과 정밀한 박막 두께 제어를 지원합니다. 맞춤형 치수로 표준 스퍼터링 장비와 호환이 가능하며 반도체 및 광학 코팅 응용 분야에 중요한 매끄러운 증착 표면과 안정적인 원소 구성을 유지합니다.
크롬 평면 타겟, Cr 타겟 특성
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속성
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Value
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조성
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Cr
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순도
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≥99.5%, ≥99.95% 또는 맞춤형
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형태
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Target
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모양
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직사각형
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밀도
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7.2 g/cm3
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스퍼터링 방법
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DC
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열 전도성
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94 W/m.K
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융점
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1,857℃
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열팽창 계수
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4.9 x 10-6
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결합 유형
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인듐, 엘라스토머
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치수
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두께: ≥ 1mm, 맞춤형
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*위 제품 정보는 이론적 데이터를 기반으로 하며 참고용으로만 제공됩니다. 실제 사양은 다를 수 있습니다.
크롬 평면 타겟, Cr 타겟 응용 분야
전자 및 반도체 제조
- 타겟의 일관된 구성을 활용하여 집적 회로에 전도성 층을 형성하는 스퍼터링 시스템에서 금속 소스로 사용됩니다.
- 평판 디스플레이 생산에서 증착 재료로 적용되어 균일한 필름 커버리지와 입자 간섭 감소를 달성합니다.
산업용 표면 코팅
- 안정적인 재료 특성을 활용하여 기계 부품의 코팅 요소로 사용되어 보호 금속층을 제공합니다.
- 소비재에 균일하고 밀착력 있는 크롬 필름을 생산하기 위한 장식용 코팅 시스템의 소스로 사용됩니다.
크롬 평면 타겟, Cr 타겟 포장
타겟은 오염 방지 포장재를 사용하여 깨끗하고 정전기 없는 환경에서 포장됩니다. 취급 시 손상을 최소화하는 보호 쿠션이 있는 습기 방지 맞춤형 용기에 밀봉되어 있습니다. 보관 지침은 온도 조절 환경과 먼지나 공기 중 입자에 대한 노출 최소화를 강조합니다. 특정 물류 요건을 충족하기 위해 라벨 부착 및 구획화된 유닛을 포함한 맞춤형 포장 옵션을 사용할 수 있습니다.
추가 정보
크롬 기반 스퍼터링 타겟은 박막 증착을 제어해야 하는 환경에서 오랫동안 사용되어 왔습니다. 높은 융점과 적당한 전기 저항을 포함한 재료 특성으로 인해 열적 및 기계적 안정성이 필수적인 애플리케이션에 적합합니다.
처리 조건과 타겟 형태를 이해하는 것은 물리적 기상 증착 시스템의 전반적인 성능에 중요한 역할을 합니다. 재료 과학에 대한 지속적인 연구는 반도체 제조 및 산업용 코팅 공정의 고급 엔지니어링 과제를 해결하기 위해 이러한 타겟을 개선하는 데 도움이 됩니다.