구리 갈륨 로터리 타겟, CuGa 타겟 설명
구리 갈륨 로터리 타겟, CuGa 타겟은 원소 조성을 엄격하게 제어한 구리-갈륨 합금으로 제작됩니다. 타겟의 맞춤형 치수는 표준 스퍼터 증착 시스템과의 통합을 가능하게 하는 동시에 작동 중 재료 침식을 균일하게 보장합니다. 이 배합은 증착 공정 중에 일관된 플라즈마 조건과 균일한 필름 형성을 지원하므로 재료 안정성과 정밀한 침식 거동이 필수적인 산업 규모 애플리케이션에 적합합니다.
구리 갈륨 로터리 타겟, CuGa 타겟 특성
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특성
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값
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구성
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Cu, Ga
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순도
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≥99.99% 또는 맞춤형
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형태
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Target
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모양
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관형
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치수
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맞춤형
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*위의 제품 정보는 이론적 데이터를 기반으로 하며 참고용으로만 제공됩니다. 실제 사양은 다를 수 있습니다.
구리 갈륨 로터리 타겟, CuGa 타겟 응용 분야
전자 제품
- 반도체 증착 시스템에서 스퍼터링 소스로 사용되어 제어된 합금 조성을 활용하여 균일한 박막 두께를 달성합니다.
- 맞춤형 타겟 치수를 통해 일관된 전기적 특성을 유지하기 위해 디스플레이 패널 제조의 재료 소스로 적용됩니다.
산업용
- 자동차 부품의 코팅 시스템에서 스퍼터링 타겟으로 사용되어 정밀한 합금 배합을 통해 균일한 재료 침식을 달성합니다.
- 산업용 표면 처리 장비에서 미세 구조 및 조성 일관성 제어를 통해 안정적인 플라즈마 조건을 얻기 위해 활용됩니다.
구리 갈륨 로터리 타겟, CuGa 타겟 포장
타겟은 환경 오염을 최소화하기 위해 습기 장벽이 있는 폼 안감 정전기 방지 용기에 고정되어 있습니다. 포장은 밀봉되어 있으며 자세한 합금 구성과 맞춤형 치수가 라벨링되어 있습니다. 재료의 열화를 방지하기 위해 건조하고 온도가 조절되는 환경에 보관하는 것이 좋습니다. 특정 취급 요건에 맞게 변조 방지 씰 및 추가 쿠션 옵션이 제공됩니다.
추가 정보
구리-갈륨 합금은 구리 고유의 열적, 전기적 특성과 갈륨이 도입한 변형된 특성을 결합한 소재입니다. 원소 조성을 정밀하게 제어하는 것은 박막 증착 응용 분야에서 균일한 박막 성장에 필요한 스퍼터링 거동을 조정하는 데 매우 중요합니다.
합금 미세 구조와 침식 거동 간의 상호 작용을 이해하면 특정 산업 공정의 타겟을 설계하는 데 도움이 됩니다. 분광학 및 전자 현미경과 같은 상세한 특성화 기술은 작동 응력 하에서 재료의 성능에 대한 통찰력을 제공하여 증착 시스템에서 정보에 입각한 재료 선택의 기초를 제공합니다.