니오븀 평면 타겟, Nb 타겟 설명
니오브 평면 타겟, Nb 타겟은 스퍼터링 응용 분야를 위해 특별히 가공된 고순도 니오브 금속으로 제조됩니다. 평면 디자인은 균일한 증착과 광범위한 스퍼터링 시스템과의 호환성을 보장합니다. 맞춤형 치수는 다양한 기판 요구 사항을 충족하는 동시에 제어된 재료 가공으로 내부 결함을 최소화합니다. 타겟의 일관된 구성은 필름 균일성을 개선하여 반도체 및 코팅 애플리케이션의 증착 공정에 이점을 제공합니다.
니오븀 평면 타겟, Nb 타겟 특성
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특성
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Value
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조성
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Nb
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순도
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≥99.95% 또는 맞춤형
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형태
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Target
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모양
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직사각형
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밀도
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≥8.57g/cm3
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열 전도성
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54 W/m-K
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본딩 유형
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없음, 인듐 또는 맞춤형
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치수
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맞춤형
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*위 제품 정보는 이론적 데이터를 기반으로 하며 참고용으로만 제공됩니다. 실제 사양은 다를 수 있습니다.
니오브 평면 타겟, Nb 타겟 응용 분야
전자
- 반도체 제조에서 스퍼터링 소스로 사용되어 제어된 조성을 활용하여 균일한 박막 증착을 달성하고 전자 장치 제조의 일관성을 향상시킵니다.
산업 공정
- 표면 엔지니어링 시스템에서 코팅 타겟으로 적용하여 필름 접착력을 향상시킵니다. 니오븀 순도를 제어하여 미세 구조 결함을 최소화하여 안정적인 공정 성능에 기여합니다.
연구 및 개발
- 증착 파라미터를 연구하기 위한 실험용 스퍼터링 셋업에서 맞춤형 타겟으로 사용됩니다. 검증된 재료 특성으로 체계적인 변화와 신뢰할 수 있는 데이터 수집이 가능합니다.
니오븀 평면 타겟, Nb 타겟 패킹
니오븀 평면 타겟, Nb 타겟은 운송 중 기계적 손상과 오염을 방지하기 위해 쿠션이 있는 정전기 방지 용기에 포장되어 있습니다. 타겟은 보호 필름으로 감싸고 견고한 상자 안에 고정됩니다. 습도가 낮고 온도가 조절되는 환경에 보관하는 것이 좋습니다. 특정 취급 요건을 충족하기 위해 진공 밀봉 및 추가 라벨링을 포함한 맞춤형 포장 옵션을 사용할 수 있습니다.
추가 정보
니오븀은 높은 융점과 화학적 불활성으로 인해 스퍼터링 타겟 응용 분야에서 널리 사용됩니다. 이 원소의 고유한 특성은 다양한 공정 조건에서 균일한 필름 증착을 용이하게 합니다. 타겟이 정확한 조성 및 기계적 요구 사항을 충족하려면 XRD 및 SEM과 같은 상세한 특성 분석 방법이 필수적입니다.
재료 과학의 발전으로 니오븀 타겟의 처리 기술이 향상되었습니다. 순도 및 표면 형태에 대한 제어가 향상되어 박막 증착 공정의 재현성이 향상되었으며, 이는 전자 및 코팅 산업의 응용 분야에 매우 중요합니다.