니켈 로터리 타겟, Ni 타겟 설명
니켈 로터리 타겟, Ni 타겟은 고순도 원소 니켈(Ni)로 제조된 스퍼터링 타겟입니다. 타겟의 회전식 구성은 스퍼터링 공정 중에 재료 침식을 고르게 하고 효율적인 열 방출을 보장합니다. 맞춤형 치수 사양은 다양한 증착 시스템과의 호환성을 지원하여 일관된 필름 두께와 균일한 증착을 촉진합니다. 이러한 기술적 특징은 공정 안정성과 장비 통합에 직접적으로 기여합니다.
니켈 로터리 타겟, Ni 타겟 특성
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특성
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Value
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구성
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Ni
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순도
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≥99.9% 또는 맞춤형
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형태
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Target
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모양
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관형
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밀도
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≥8.91g/cm3
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융점
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1453℃
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치수
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맞춤형
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*위 제품 정보는 이론적 데이터를 기반으로 하며 참고용으로만 제공됩니다. 실제 사양은 다를 수 있습니다.
니켈 로터리 타겟, 니켈 타겟 응용 분야
1.전자
- 반도체 박막 증착의 스퍼터링 소스로 사용되어 타겟의 회전 운동을 활용하여 균일한 박막 성장을 달성합니다.
- 디스플레이 패널 제조의 코팅 요소로 적용되어 일관된 에로젼을 통해 균일한 커버리지를 보장합니다.
2.산업 공정
- 회전 작용에 의한 균일한 증착을 활용하여 내식성을 향상시키기 위한 표면 개질 시스템의 코팅 타겟으로 사용됩니다.
- 내식성 부품 제조를 위한 진공 증착 시스템에 사용되어 균일한 필름 두께와 향상된 공정 제어를 달성합니다.
3.연구 및 개발
- 제어된 침식 특성을 적용하여 증착 역학을 연구하기 위한 분석적 스퍼터링 실험에 구현.
- 타겟 설계가 필름 형태에 미치는 영향을 조사하기 위한 실험실 규모의 프로젝트에 활용되어 맞춤형 치수의 이점을 누릴 수 있습니다.
니켈 로터리 타겟, 니켈 타겟 포장
니켈 로터리 타겟, Ni 타겟은 정전기 방지 포장으로 포장되고 폼 안감 용기에 고정되어 기계적 손상과 표면 오염을 방지합니다. 포장은 습기 및 공기 중 미립자에 대한 노출을 최소화하도록 설계되었습니다. 보관은 통제되고 건조한 환경에 보관하는 것이 좋습니다. 요청 시 진공 밀봉 및 특정 라벨링을 포함한 맞춤형 포장 옵션이 제공됩니다.
추가 정보
니켈은 우수한 전기적 및 열적 특성으로 인해 스퍼터링 증착 분야에서 여전히 중요한 재료입니다. 고에너지 공정 중 니켈의 거동을 이해하면 다양한 산업 응용 분야에서 필름 균일성과 접착력을 최적화하는 데 필요한 통찰력을 얻을 수 있습니다.
또한 스퍼터링 타겟의 설계는 증착 특성을 맞춤화하는 데 중요한 역할을 합니다. 회전 타겟 구성의 발전으로 일관된 에로젼과 제어된 재료 이송이 가능하여 전자, 표면 공학 및 연구 환경에서 고정밀 필름 제작을 지원합니다.