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ST11205 니켈 바나듐 로터리 타겟, NiV 타겟

카탈로그 번호.	ST11205
구성	Ni, V
순도	≥99.9% 또는 사용자 지정
양식	Target
모양	관형
치수	사용자 지정

니켈 바나듐 로터리 타겟, NiV 타겟은 제어된 박막 증착이 중요한 스퍼터링 응용 분야를 위해 설계되었습니다. Stanford Advanced Materials(SAM)에서 제조한 이 타겟은 엄격한 조성 제어를 통해 생산되며 SEM 기반 검사 프로토콜을 통해 검증을 거쳤습니다. SAM은 변동성을 최소화하는 정밀한 가공 및 합금 혼합 기술을 활용하여 재료 특성이 고급 필름 증착 공정의 까다로운 사양에 부합하도록 보장합니다.

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FAQ

사용자 정의 치수 기능은 필름 증착 균일성에 어떤 영향을 미칩니까?

맞춤형 치수를 통해 공정 엔지니어는 타겟 크기를 증착 챔버와 일치시켜 균일한 에로젼과 일관된 필름 두께를 지원할 수 있습니다. 타겟 크기를 조정하면 증착 효율을 향상시킬 수 있습니다. 자세한 내용은 당사에 문의하세요.

NiV 타겟을 제작하는 동안 어떤 품질 관리 조치가 필수인가요?

생산 공정에는 합금 조성 검증과 SEM을 이용한 표면 이미징이 포함됩니다. 이러한 조치는 재료 구조의 불일치를 감지하여 타겟이 스퍼터링 애플리케이션에 대한 정확한 요구 사항을 충족하는지 확인하는 데 도움이 됩니다. 자세한 내용은 당사에 문의하세요.

공정 엔지니어가 NiV 타겟을 사용할 때 스퍼터링 파라미터를 최적화하려면 어떻게 해야 할까요?

공정 엔지니어는 스퍼터링 파워, 압력, 기판 거리와 같은 요소를 고려해야 합니다. 이러한 파라미터를 타겟의 일관된 합금 구성과 함께 미세 조정하면 최적의 필름 증착 및 공정 안정성을 지원합니다. 구체적인 가이드라인은 당사에 문의하세요.

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