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| 카탈로그 번호. | ST11205 |
| 구성 | Ni, V |
| 순도 | ≥99.9% 또는 사용자 지정 |
| 양식 | Target |
| 모양 | 관형 |
| 치수 | 사용자 지정 |
니켈 바나듐 로터리 타겟, NiV 타겟은 제어된 박막 증착이 중요한 스퍼터링 애플리케이션을 위해 설계되었습니다. Stanford Advanced Materials(SAM)에서 제조한 이 타겟은 엄격한 조성 제어를 통해 생산되며 SEM 기반 검사 프로토콜을 통해 검증됩니다. SAM은 변동성을 최소화하는 정밀한 가공 및 합금 혼합 기술을 활용하여 재료 특성이 고급 필름 증착 공정의 까다로운 사양에 부합하도록 보장합니다.
맞춤형 치수를 통해 공정 엔지니어는 타겟 크기를 증착 챔버와 일치시켜 균일한 에로젼과 일관된 필름 두께를 지원할 수 있습니다. 타겟 크기를 조정하면 증착 효율을 향상시킬 수 있습니다. 자세한 내용은 당사에 문의하세요.
생산 공정에는 합금 조성 검증과 SEM을 이용한 표면 이미징이 포함됩니다. 이러한 조치는 재료 구조의 불일치를 감지하여 타겟이 스퍼터링 애플리케이션의 정밀한 요구 사항을 충족하는지 확인하는 데 도움이 됩니다. 자세한 내용은 당사에 문의하시기 바랍니다.
공정 엔지니어는 스퍼터링 파워, 압력, 기판 거리와 같은 요소를 고려해야 합니다. 타겟의 일관된 합금 구성과 함께 이러한 파라미터를 미세 조정하면 최적의 박막 증착 및 공정 안정성을 지원합니다. 구체적인 가이드라인은 당사에 문의하세요.
오늘 바로 문의해 주시면 자세한 정보를 확인하시고 최신 가격 정보를 받으실 수 있습니다. 감사합니다!
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