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    • ST11206 납 평면 타겟, 납 타겟

    카탈로그 번호. ST11206
    구성 Pb
    순도 ≥99.99% 또는 사용자 지정
    양식 Target
    모양 직사각형
    치수 사용자 지정

    납 평면 타겟, 납 타겟은 박막 증착 애플리케이션에 주로 사용되는 납으로 구성된 스퍼터링 타겟입니다. Stanford Advanced Materials (SAM)는 엄격한 불순물 제어를 유지하기 위해 확립된 금속 가공 기술과 광학 현미경을 사용한 엄격한 표면 검사를 적용합니다. SAM의 공정 프로토콜에는 배치 간 검증 테스트가 포함되어 있어 평면 표면이 최적화된 스퍼터링 성능을 위해 정의된 치수 및 화학 표준을 충족하는지 확인합니다.

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    FAQ

    치수의 사용자 정의가 스퍼터링 공정에 어떤 영향을 미칩니까?

    맞춤형 치수를 통해 타겟을 특정 챔버 요구 사항에 맞출 수 있어 플라즈마 분포와 증착 속도를 균일하게 보장합니다. 이러한 맞춤화는 기판의 필름 균일성을 최적화하여 가장자리 효과를 줄이고 전반적인 공정 제어를 개선하는 데 도움이 됩니다.

    납 평면 타겟을 제작하는 동안 어떤 품질 관리 조치가 적용되나요?

    타겟은 평탄도와 일관성을 보장하기 위해 광학 및 표면 프로파일 측정 방법을 사용하여 엄격한 검사를 거칩니다. 이러한 평가를 통해 화학적 순도와 치수 공차가 모두 향상된 증착 성능을 위해 정의된 공정 기준을 충족하는지 확인합니다.

    이 납 타겟을 수정 없이 기존 스퍼터링 시스템에 통합할 수 있습니까?

    예, 평면 디자인과 사용자 정의 가능한 치수로 인해 타겟은 다양한 스퍼터링 설정에 맞게 조정할 수 있습니다. 특정 장비 파라미터에 따라 조정이 필요할 수 있으므로 자세한 통합 지침은 당사에 문의하세요.

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    비교에 추가

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