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    • ST11211 주석 평면 타겟, Sn 타겟

    카탈로그 번호. ST11211
    구성 Sn
    순도 ≥99.99% 또는 사용자 지정
    양식 Target
    모양 직사각형
    치수 사용자 지정

    주석 평면 타겟, Sn 타겟은 박막 증착을 위해 고순도 주석으로 제조된 스퍼터링 타겟입니다. Stanford Advanced Materials(SAM)는 주사 전자 현미경과 표면 프로파일 측정법을 사용하여 엄격한 품질 관리를 통해 치수 정확도와 표면 균일성을 검증합니다. 생산 공정은 엄격한 조성 제어와 평면 평탄도를 강조하여 산업 응용 분야에서 증착 일관성을 지원합니다. SAM은 제조 과정에서 정밀한 재료 취급과 인라인 계측을 통합하여 성능 재현성을 유지합니다.

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    FAQ

    이 주석 타겟의 스퍼터링 성능에 가장 큰 영향을 미치는 파라미터는 무엇입니까?

    표면 평탄도와 순도 수준은 매우 중요합니다. 편차는 필름 균일성과 증착 속도에 영향을 미칠 수 있습니다. 스퍼터링 중 입자 생성을 최소화하려면 일관된 타겟 구성과 정밀한 치수가 필수적입니다.

    맞춤형 주석 스퍼터링 타겟을 사용할 때 통합 문제를 최소화하려면 어떻게 해야 하나요?

    정밀한 치수 제어를 통해 표준 증착 챔버와의 호환성을 확보할 수 있습니다. 지정된 사용자 정의가 장비 공차 및 세척 프로토콜을 충족하는지 확인하여 정렬 오류와 입자 오염을 줄입니다.

    주석 타겟의 표면 무결성을 확인하기 위해 권장되는 테스트 방법은 무엇인가요?

    표면 평탄도를 평가하고 불순물을 감지하려면 표면 프로파일 측정과 주사 전자 현미경을 사용하는 것이 좋습니다. 이러한 기술은 공정 제어를 유지하는 데 필수적인 정량적 측정을 제공합니다. 자세한 내용은 당사에 문의하세요.

    마지막 추천

    Nano Tin Powder (Sn) (CAS No.7440-31-5)
    NN0265 나노 주석 분말(Sn)(CAS No.7440-31-5)
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    Micro Tin Powder
    SN0266 마이크로 주석 분말(Sn)(CAS 번호 7440-31-5)
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    ITO0491 Indium Tin Oxide (ITO) Sputtering Targets
    ST0334 인듐주석산화물(ITO) 스퍼터링 타겟
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    fluorine-doped-tin-oxide-fto-sputtering-target
    ST0424 불소 도핑 주석 산화물(FTO) 스퍼터링 타겟
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    Tin (Sn) Evaporation Materials
    VD0585 주석(Sn) 증착 재료
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    Zinc Tin (Zn/Sn) Evaporation Materials
    VD0662 아연 주석(Zn/Sn) 증착 재료
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    VD0693 Indium Tin Oxide (ITO) Evaporation Materials
    VD0693 인듐주석산화물(ITO) 증착 재료
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