ST11212 주석 로터리 타겟, Sn 타겟

카탈로그 번호.	ST11212
구성	Sn
순도	≥99.99% 또는 사용자 지정
양식	Target
모양	관형
치수	사용자 지정

주석 로터리 타겟, Sn 타겟은 고순도 주석으로 생산되는 스퍼터링 재료로, 제어된 필름 증착 공정에 최적화되어 있습니다. Stanford Advanced Materials(SAM)는 진공 아크 재용융 및 현미경 표면 검증을 사용하여 일관된 미세 구조 특성을 달성하고 내포물을 최소화합니다. SAM은 정량적 금속학적 평가를 사용하여 엄격한 조성 및 치수 허용오차를 준수합니다. 포괄적인 품질 관리 프로세스는 불순물을 최소화하고 예측 가능한 증착 결과를 지원합니다.

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FAQ

주석 로터리 타겟을 사용한 스퍼터링 시 증착 균일성에 영향을 미치는 요인은 무엇인가요?

증착 균일성은 대상의 표면 무결성, 일관된 구성, 회전 속도에 따라 달라집니다. 이러한 파라미터를 정밀하게 제어하면 입자 형성을 최소화하고 기판 전체에 균일한 필름 두께를 보장할 수 있습니다.

주석 로터리 타겟의 제조 공차는 코팅 품질에 어떤 영향을 미칩니까?

조성 및 치수의 엄격한 허용 오차로 균일한 스퍼터링 거동을 보장합니다. 미세 구조 분석과 같은 향상된 품질 검증 방법을 통해 필름 두께의 일관성을 유지하고 코팅 공정 중 결함을 줄입니다.

주석 회전 타겟을 취급하고 오염을 방지하기 위해 어떤 예방 조치를 취해야 하나요?

정전기 방지 장갑을 사용하고 타겟을 깨끗하고 온도가 제어되는 환경에 보관하는 것이 필수적입니다. 적절한 취급 및 포장 조치는 산화 및 표면 오염 물질을 방지하여 스퍼터링 성능을 유지합니다.

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ST11212 주석 로터리 타겟, Sn 타겟

주석 로터리 타겟, Sn 타겟 설명

주석 로터리 타겟, Sn 타겟 특성

주석 로터리 타겟, Sn 타겟 응용 분야

주석 로터리 타겟, Sn 타겟 포장

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주석 로터리 타겟을 사용한 스퍼터링 시 증착 균일성에 영향을 미치는 요인은 무엇인가요?

주석 로터리 타겟의 제조 공차는 코팅 품질에 어떤 영향을 미칩니까?

주석 회전 타겟을 취급하고 오염을 방지하기 위해 어떤 예방 조치를 취해야 하나요?

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특성	Value
구성	Sn
순도	≥99.99% 또는 사용자 지정
형태	Target
모양	관형
밀도	7.28g/cm3
결합 유형	인듐, 엘라스토머
치수	맞춤형

속성	값
구성	Sn
순도	≥99.99% 또는 사용자 지정
형태	Target
모양	관형
밀도	7.28g/cm3
결합 유형	인듐, 엘라스토머
치수	맞춤형