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ST11215 탄탈 카바이드 평면 타겟, TaC 타겟

카탈로그 번호. ST11215
구성 TaC
순도 ≥99.9% 또는 사용자 지정
양식 Target
모양 직사각형
치수 사용자 지정

탄탈 카바이드 평면 타겟, TaC 타겟은 제어된 반응성 소결을 사용하여 제작되어 스퍼터링 애플리케이션에 적합한 균일한 미세 구조를 생성합니다. 스탠포드 어드밴스드 머티리얼즈(Stanford Advanced Materials, SAM)는 품질 관리 공정에서 전자 현미경과 X-선 회절을 사용하여 조성 허용 오차와 입자 구조를 확인합니다. 이 방법론은 재현 가능한 필름 증착에 필요한 미세 구조적 일관성을 달성하는 데 도움이 됩니다.

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FAQ

TaC 타겟의 미세 구조가 스퍼터링 성능에 어떤 영향을 미칩니까?

미세 구조는 스퍼터 수율과 박막 증착의 균일성에 직접적인 영향을 미칩니다. 잘 제어된 입자 분포는 스퍼터링 중 안정적인 침식을 가능하게 하여 입자 생성을 최소화하고 예측 가능한 박막 특성을 보장합니다. 자세한 내용은 당사에 문의하세요.

TaC 타겟을 제작하는 동안 어떤 품질 관리 방법이 구현되나요?

품질 관리에는 미세 구조 무결성과 조성 허용 오차를 확인하기 위한 전자 현미경 및 X-선 회절 분석이 포함됩니다. 이러한 평가는 입자 크기와 밀도의 변화를 감지하여 타겟이 스퍼터링 공정의 엄격한 요구 사항을 충족하는지 확인하는 데 도움이 됩니다. 자세한 문의는 당사에 문의하세요.

사용자 정의 가능한 치수 옵션은 스퍼터링 시스템과의 호환성에 어떤 영향을 미칩니까?

사용자 정의 가능한 치수를 통해 타겟을 특정 챔버 형상에 맞게 조정할 수 있습니다. 이러한 유연성은 증착 장비와의 적절한 정렬을 보장하여 스퍼터링 중에 타겟 표면을 균일하게 침식할 수 있도록 합니다. 자세한 기술 사양은 당사에 문의하세요.

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