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Stanford Advanced Materials
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ST11217 티타늄 실리사이드 평면 타겟, TiSi2 타겟

카탈로그 번호. ST11217
구성 TiSi2
순도 ≥99.9% 또는 사용자 지정
양식 Target
모양 직사각형
치수 사용자 지정

티타늄 실리사이드 평면 타겟, TiSi2 타겟은 박막 증착 애플리케이션을 위해 설계된 스퍼터링 타겟입니다. Stanford Advanced Materials(SAM)는 주사 전자 현미경 및 X-선 회절 분석을 포함한 엄격한 공정 제어를 사용하여 미세 구조의 일관성을 감독합니다. 타겟은 결함 및 입자 방출을 최소화하기 위해 제어된 구성으로 생산되어 스퍼터링 중에 표면 전체에 균일한 재료 침식을 보장합니다.

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FAQ

스퍼터링에 티타늄 실리사이드 평면 타겟을 사용할 때 필름 균일성에 영향을 미치는 요인은 무엇입니까?

평면적 구성과 제어된 미세 구조는 타겟 표면 전체에 걸쳐 균일한 침식을 제공합니다. 따라서 스퍼터링 조건이 잘 조절되면 입자 생성을 최소화하고 일관된 박막 증착을 보장합니다.

타겟 치수의 사용자 정의가 스퍼터링 애플리케이션에 어떤 이점을 제공합니까?

맞춤형 치수는 다양한 스퍼터링 시스템과의 통합을 가능하게 하여 최적의 전력 밀도 및 냉각 구성을 용이하게 합니다. 이러한 맞춤화는 균일한 박막 증착을 달성하고 특정 시스템 요구 사항에 맞게 공정 파라미터를 조정하는 데 도움이 됩니다.

이러한 목표의 품질 관리에는 어떤 분석 기법이 사용되나요?

품질 관리에는 주사 전자 현미경과 원자력 현미경을 이용한 표면 형태 평가가 포함됩니다. 이러한 기술은 미세 구조적 무결성을 검증하고 증착 일관성을 유지하는 데 중요한 결함을 최소화합니다.

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