ST11218 바나듐 로터리 타겟, V 타겟

카탈로그 번호.	ST11218
구성	V
순도	≥99% 또는 사용자 지정
양식	Target
모양	관형
치수	사용자 지정

바나듐 로터리 타겟, V 타겟은 균일한 타겟 침식을 촉진하기 위해 회전식 설계를 사용하여 고순도 바나듐으로 제조된 스퍼터링 타겟입니다. 스탠포드 어드밴스드 머티리얼즈(Stanford Advanced Materials, SAM)는 XRD 및 SEM 분석과 같은 상세한 재료 특성화 기술을 사용하여 미세 구조의 일관성을 모니터링합니다. SAM의 생산은 박막 증착에서 배치 일관성 및 성능을 관리하기 위해 실시간 합금 조성 검증과 함께 제어된 용융 및 주조 공정을 통합합니다.

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FAQ

로터리 설계가 스퍼터링 공정에서 에로젼 균일성에 어떤 영향을 미칩니까?

회전식 설계는 타겟 표면 전체에 고른 침식을 촉진하여 국부적인 마모를 최소화합니다. 따라서 산업용 스퍼터링 시스템에서 기판 전체에 걸쳐 균일한 박막 특성을 유지하는 데 필수적인 일관된 증착 속도를 얻을 수 있습니다. 자세한 기술 정보는 당사에 문의하세요.

대상 표면 무결성을 유지하기 위해 어떤 청소 절차가 권장되나요?

대상의 표면 특성을 변경하지 않고 잔여물을 제거하려면 솔벤트 기반 세척과 함께 비마모성 세척 방법을 사용하는 것이 좋습니다. 이러한 유지 관리 방법은 장시간 스퍼터링 작업 시 타겟의 성능을 보존하는 데 도움이 됩니다. 자세한 지침은 당사에 문의하세요.

제조 과정에서 바나듐 성분을 검증하는 품질 관리 방법은 무엇인가요?

제조 공정에는 미세 구조 검사를 위한 정량 분광법과 SEM 분석이 통합되어 있습니다. 이러한 조치는 합금 조성이 정의된 기준을 충족하도록 보장하며, 이는 의도한 스퍼터링 성능을 달성하는 데 매우 중요합니다. 포괄적인 품질 관리 프로토콜은 당사에 문의하세요.

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파라미터	값
구성	V
순도	≥99% 또는 사용자 지정
형태	대상
모양	관형
밀도	6.0g/cm3
치수	맞춤형
녹는점	1890℃

ST11218 바나듐 로터리 타겟, V 타겟

바나듐 로터리 타겟, V 타겟 설명

바나듐 로터리 타겟, V 타겟 특성

바나듐 로터리 타겟, V 타겟 응용 분야

바나듐 로터리 타겟, V 타겟 패킹

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로터리 설계가 스퍼터링 공정에서 에로젼 균일성에 어떤 영향을 미칩니까?

대상 표면 무결성을 유지하기 위해 어떤 청소 절차가 권장되나요?

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매개변수	값
구성	V
순도	≥99% 또는 사용자 지정
형태	대상
모양	관형
밀도	6.0g/cm3
치수	맞춤형