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ST11455 니켈 코발트 바나듐 평면 타겟, NiCoV 타겟

카탈로그 번호. ST11455
구성 NiCoV
모양 직사각형
양식 Target
순도 Ni+Co+V: ≥99%

니켈 코발트 바나듐 평면 타겟, NiCoV 타겟은 스퍼터링 응용 분야를 위해 설계된 특수 제조된 NiCoV 합금으로 제조됩니다. 스탠포드 어드밴스드 머티리얼즈(Stanford Advanced Materials, SAM)는 분광 및 X-선 회절 분석을 적용하여 조성 균일성과 구조적 일관성을 검증합니다. SAM은 생산 과정에서 상세한 제어 데이터를 유지하여 입자 생성을 최소화하고 균일한 증착 특성을 보장합니다. 이러한 측정은 박막 공정 중 예측 가능한 필름 특성을 지원합니다.

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FAQ

NiCoV 타겟 구성이 스퍼터링 성능을 어떻게 개선하나요?

NiCoV 합금은 스퍼터링 중에 균일한 에로젼 패턴을 촉진합니다. 이러한 일관성은 일정한 필름 두께를 달성하는 데 도움이 되고 입자 오염을 줄여 공정 반복성을 향상시킵니다.

평면 지오메트리가 증착 균일성에 어떤 영향을 미칩니까?

평면형 설계는 스퍼터링 중에 균일한 전기장을 보장합니다. 따라서 균일한 박막을 필요로 하는 애플리케이션에 매우 중요한 균일한 증착과 최소한의 에지 효과를 얻을 수 있습니다.

이 타겟의 사용을 최적화하려면 어떤 프로세스 조건이 권장되나요?

제어된 압력 및 온도 조건에서 작동하면 필름 접착력이 향상되고 타겟 마모가 최소화됩니다. 증착 속도 요구 사항에 따라 스퍼터링 파워 설정을 조정합니다. 자세한 지침은 특정 공정 프로토콜을 참조하거나 당사에 문의하세요.

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