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  • ST11456 니켈 코발트 철 티타늄 평면 타겟, NiCoFeTi 타겟

    • ST11456 니켈 코발트 철 티타늄 평면 타겟, NiCoFeTi 타겟

    카탈로그 번호. ST11456
    구성 NiCoFeTi
    모양 직사각형
    양식 Target
    순도 Ni+Co+Fe+Ti: ≥99%

    니켈 코발트 철 티타늄 평면 타겟, NiCoFeTi 타겟은 균일한 증착 성능을 제공하기 위해 제어된 합금 시스템으로 설계된 스퍼터링 타겟입니다. Stanford Advanced Materials(SAM)는 정밀 용융 및 진공 아크 재용융 공정을 사용하여 이 타겟을 생산합니다. 정밀한 표면 검사 및 치수 검사를 통해 엄격한 공차를 준수합니다. SAM의 체계적인 품질 관리와 배치 추적성은 스퍼터링 애플리케이션을 위한 재료 제조 및 특성화에 대한 체계적인 접근 방식을 강조합니다.

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    FAQ

    이 스퍼터링 타겟을 사용할 때 증착 균일성을 결정하는 요소는 무엇입니까?

    증착 균일성은 타겟의 평면 형상과 정밀한 합금 구성의 영향을 받습니다. 이러한 요소는 스퍼터링 조건에서 침식 패턴을 제어합니다. 또한 제조 공정은 불순물을 최소화하여 증착 중 재료 제거가 균일하게 이루어지도록 지원합니다. 자세한 기술 정보는 당사에 문의하시기 바랍니다.

    제어된 합금 구성이 필름 특성에 어떤 영향을 미치나요?

    NiCoFeTi 구성은 스퍼터링 중 결함을 줄이도록 설계되어 균일한 필름 두께와 표면 형태를 촉진합니다. 이러한 일관성은 사소한 변화가 디바이스 성능에 영향을 미칠 수 있는 반도체 및 디스플레이 제조 분야의 애플리케이션에 매우 중요합니다.

    대상의 무결성을 유지하기 위해 권장되는 스토리지 조건은 무엇인가요?

    대상은 오염 물질에 대한 노출을 최소화하면서 온도가 안정되고 습도가 낮은 환경에 보관해야 합니다. 이러한 조건은 산화 및 표면 열화를 방지하여 보관 기간 내내 대상의 평면 형상과 구성 무결성을 유지합니다. 구체적인 지침은 당사에 문의하시기 바랍니다.

    마지막 추천

    https://www.samaterials.com/images/sc/1768529895-normal-ST0007.jpg
    ST0007 칼슘 (Ca) 스퍼터링 타겟
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    Lanthanum (La) Sputtering Target
    ST0024 란탄(Lanthanum, La) 스퍼터링 타겟
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    Magnesium (Mg) Sputtering Target
    ST0028 마그네슘 (Mg) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Molybdenum Sputtering Target 99.95%, Dia. 6 inch
    ST0030 몰리브덴(Mo) 스퍼터링 타겟
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    Neodymium (Nd) Sputtering Target
    ST0031 네오디뮴(Nd) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Niobium (Nb) Sputtering Target
    ST0033 니오븀(Nb) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Praseodymium (Pr) Sputtering Target
    ST0036 프라세오디뮴(Pr) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Niobium Target, Nb Target
    NB0036 니오븀 타겟, Nb 타겟
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