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  • ST11461 구리 니켈 티타늄 평면 타겟, CuNiTi 타겟

    • ST11461 구리 니켈 티타늄 평면 타겟, CuNiTi 타겟

    카탈로그 번호. ST11461
    구성 CuNiTi
    모양 직사각형
    양식 Target
    순도 Cu+니켈+티타늄: ≥99%

    구리 니켈 티타늄 평면 타겟, CuNiTi 타겟은 보정된 야금 기술을 사용하여 특정 구리, 니켈 및 티타늄 합금으로 제조됩니다. Stanford Advanced Materials(SAM)는 미세 구조적 특징을 제어하기 위해 상세한 조성 분석과 주기적인 전자 현미경 검사를 사용합니다. 생산 공정은 합금 균질성을 유지하기 위해 측정된 소결 및 어닐링 단계를 통합하여 각 타겟이 스퍼터링 응용 분야에 대한 산업 제조 요구 사항을 충족하도록 보장합니다.

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    FAQ

    합금 구성이 스퍼터링 공정에 어떤 영향을 미치나요?

    특정 구리, 니켈 및 티타늄 혼합물은 스퍼터링 수율과 필름 균일성에 영향을 미칩니다. 원소 비율의 변화는 침식 거동을 변화시켜 산업 공정에서 증착 일관성에 영향을 줄 수 있습니다.

    타겟 제조 과정에서 중요한 처리 제어는 무엇인가요?

    제어된 소결 온도를 유지하고 미세 구조 검사를 수행하는 것은 필수적입니다. 이러한 단계는 내포물 및 성분 편차를 최소화하여 타겟의 운영 일관성을 유지합니다.

    특수 스퍼터링 설정에 맞게 CuNiTi 타겟을 조정할 수 있습니까?

    합금 비율과 표면 마감을 조정하여 특정 장비에 맞는 증착 특성을 구현할 수 있습니다. 자세한 커스터마이징 정보는 문의해 주세요.

    마지막 추천

    https://www.samaterials.com/images/sc/1768529895-normal-ST0007.jpg
    ST0007 칼슘 (Ca) 스퍼터링 타겟
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    Lanthanum (La) Sputtering Target
    ST0024 란탄(Lanthanum, La) 스퍼터링 타겟
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    Magnesium (Mg) Sputtering Target
    ST0028 마그네슘 (Mg) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Molybdenum Sputtering Target 99.95%, Dia. 6 inch
    ST0030 몰리브덴(Mo) 스퍼터링 타겟
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    Neodymium (Nd) Sputtering Target
    ST0031 네오디뮴(Nd) 스퍼터링 타겟
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    Niobium (Nb) Sputtering Target
    ST0033 니오븀(Nb) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Praseodymium (Pr) Sputtering Target
    ST0036 프라세오디뮴(Pr) 스퍼터링 타겟
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    Niobium Target, Nb Target
    NB0036 니오븀 타겟, Nb 타겟
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