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  • ST11468 니켈 몰리브덴 평면 타겟, NiMo 타겟

    • ST11468 니켈 몰리브덴 평면 타겟, NiMo 타겟

    카탈로그 번호. ST11468
    구성 NiMo
    모양 직사각형
    양식 Target
    순도 Ni+Mo: ≥99%

    니켈 몰리브덴 평면 타겟, NiMo 타겟은 제어된 스퍼터링 증착에 필수적인 평평한 형상을 가진 정제된 니켈-몰리브덴 합금으로 제조됩니다. 스탠포드 어드밴스드 머티리얼즈(Stanford Advanced Materials, SAM)는 X-선 회절 및 전자 현미경을 포함한 표적 재료 특성화를 구현하여 조성 무결성 및 표면 균일성을 검증합니다. 이 타겟은 스퍼터링 중에 일관된 침식 거동을 제공함으로써 정밀한 박막 응용 분야를 지원합니다.

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    FAQ

    NiMo 구성이 스퍼터링 성능에 어떤 영향을 미치나요?

    NiMo 합금은 예측 가능한 침식 속도와 균일한 증착 프로파일을 제공합니다. 이러한 일관성은 필름 두께를 제어하는 데 도움이 되며 RF 및 DC 스퍼터링 공정에서 타겟 중독 문제를 줄여줍니다.

    평면 디자인은 증착 공정에서 어떤 이점을 제공합니까?

    평면형 구성은 타겟 표면 전체에 플라즈마 균일성을 향상시켜 균일한 필름 증착을 가능하게 합니다. 이 설계는 가장자리 효과를 최소화하고 기판에서 일관된 코팅 프로파일을 보장합니다.

    목표 생산 시 어떤 품질 관리 방법이 적용되나요?

    품질 보증에는 전자 현미경과 분광 분석을 통해 표면 균일성과 조성 정확도를 검증하는 것이 포함됩니다. 이러한 방법을 통해 각 타겟이 치수 정밀도와 표면 무결성에 대한 엄격한 기준을 충족하는지 확인합니다.

    마지막 추천

    https://www.samaterials.com/images/sc/1768529895-normal-ST0007.jpg
    ST0007 칼슘 (Ca) 스퍼터링 타겟
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    Lanthanum (La) Sputtering Target
    ST0024 란탄(Lanthanum, La) 스퍼터링 타겟
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    Magnesium (Mg) Sputtering Target
    ST0028 마그네슘 (Mg) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Molybdenum Sputtering Target 99.95%, Dia. 6 inch
    ST0030 몰리브덴(Mo) 스퍼터링 타겟
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    Neodymium (Nd) Sputtering Target
    ST0031 네오디뮴(Nd) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Niobium (Nb) Sputtering Target
    ST0033 니오븀(Nb) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Praseodymium (Pr) Sputtering Target
    ST0036 프라세오디뮴(Pr) 스퍼터링 타겟
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    Niobium Target, Nb Target
    NB0036 니오븀 타겟, Nb 타겟
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