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  • ST11469 니켈 크롬 알루미늄 타겟, NiCrAl 타겟

    • ST11469 니켈 크롬 알루미늄 타겟, NiCrAl 타겟

    카탈로그 번호. ST11469
    구성 NiCrAl
    모양 직사각형
    양식 Target
    순도 Ni+Cr+Al: ≥99%

    니켈 크롬 알루미늄 타겟, NiCrAl 타겟은 스퍼터링 응용 분야를 위해 제어된 NiCrAl 합금 조성으로 설계되었습니다. Stanford Advanced Materials (SAM)는 엄격한 공차를 유지하기 위해 인라인 광학 검사 및 재료 조성 분석을 포함한 체계적인 공정 제어를 활용합니다. 제조 공정에는 합금 균질성을 검증하기 위한 상세한 미세 구조 평가가 포함되어 있어 타겟이 필름 증착에 대한 산업 공정 표준을 충족하는지 확인합니다. 이러한 가시적인 품질 관리 조치는 타겟 제작 중 중요한 성능 메트릭을 준수하도록 지원합니다.

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    FAQ

    스퍼터링 응용 분야에서 NiCrAl 조성은 박막 증착에 어떤 영향을 미칩니까?

    NiCrAl 합금은 균일한 필름 증착에 기여하는 안정적인 전기적 및 열적 특성을 제공합니다. 이 제어된 구성은 기판 응력을 최소화하고 일관된 재료 전달을 보장하여 균일한 코팅을 달성하는 데 매우 중요합니다.

    목표 일관성을 보장하기 위해 어떤 프로세스 제어가 구현되나요?

    SAM은 상세한 미세 구조 평가와 인라인 광학 검사를 통해 합금 균질성을 검증합니다. 이 접근 방식은 조성 편차를 최소화하고 일관된 스퍼터링 성능에 필수적인 중요 파라미터를 유지합니다. 자세한 내용은 당사에 문의하세요.

    특정 스퍼터링 설정에 맞게 타겟을 맞춤 설정할 수 있습니까?

    예, 타겟 치수 및 합금 구성에 관한 사용자 지정 옵션을 사용할 수 있습니다. 특정 증착 시스템 요구 사항에 따라 조정하여 필름 균일성과 운영 효율성을 최적화합니다.

    마지막 추천

    https://www.samaterials.com/images/sc/1768529895-normal-ST0007.jpg
    ST0007 칼슘 (Ca) 스퍼터링 타겟
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    Lanthanum (La) Sputtering Target
    ST0024 란탄(Lanthanum, La) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Magnesium (Mg) Sputtering Target
    ST0028 마그네슘 (Mg) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Molybdenum Sputtering Target 99.95%, Dia. 6 inch
    ST0030 몰리브덴(Mo) 스퍼터링 타겟
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    Neodymium (Nd) Sputtering Target
    ST0031 네오디뮴(Nd) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Niobium (Nb) Sputtering Target
    ST0033 니오븀(Nb) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Praseodymium (Pr) Sputtering Target
    ST0036 프라세오디뮴(Pr) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Niobium Target, Nb Target
    NB0036 니오븀 타겟, Nb 타겟
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