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  • ST11478 탄산리튬 스퍼터링 타겟 Li2CO3 타겟

    • ST11478 탄산리튬 스퍼터링 타겟 Li2CO3 타겟

    카탈로그 번호. ST11478
    구성 Li2CO3
    모양 원형, 직사각형, 맞춤형
    양식 Target
    순도 ≥99%

    탄산리튬 스퍼터링 타겟 Li2CO3 타겟은 일관된 스퍼터링 성능을 달성하기 위해 밀도가 제어되고 결함이 최소화된 고순도 탄산리튬을 사용하여 생산됩니다. 스탠포드 어드밴스드 머티리얼즈(Stanford Advanced Materials, SAM)는 XRD 및 SEM 분석과 같은 엄격한 자체 특성화 방법을 사용하여 미세 구조 균일성과 표면 품질을 모니터링합니다. 이 철저한 검사 프로세스는 전자 및 세라믹 애플리케이션에서 정밀한 박막 증착을 위해 불순물을 최소화하고 공정 일관성을 보장합니다.

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    FAQ

    Li2CO3의 순도는 스퍼터링 공정에 어떤 영향을 미칩니까?

    고순도 Li2CO3는 증착 시 오염 물질을 최소화하여 균일한 필름 두께와 제어된 전기적 특성을 달성하는 데 도움이 됩니다. 이는 필름 성능의 일관성이 중요한 애플리케이션에 필수적입니다.

    Li2CO3 스퍼터링 타겟을 사용할 때 어떤 작동 파라미터를 모니터링해야 합니까?

    스퍼터링 파워, 챔버 압력, 기판 온도를 관리하는 것이 중요합니다. 이러한 매개변수는 필름 접착력, 균일성 및 전반적인 증착 효율에 영향을 미칩니다. 이러한 조건을 미세 조정하면 필름 품질을 향상시킬 수 있습니다.

    타겟을 반도체 제조에서 박막 증착에 사용할 수 있나요?

    예, 이 타겟은 반도체 애플리케이션의 박막 증착에 적합합니다. 제어된 구성과 구조는 재현 가능한 전기적 및 기계적 특성을 가진 필름을 생산하는 데 도움이 됩니다. 구체적인 공정 조정에 대해서는 기술 상담을 권장합니다.

    마지막 추천

    https://www.samaterials.com/images/sc/1768529895-normal-ST0007.jpg
    ST0007 칼슘 (Ca) 스퍼터링 타겟
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    Lanthanum (La) Sputtering Target
    ST0024 란탄(Lanthanum, La) 스퍼터링 타겟
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    Magnesium (Mg) Sputtering Target
    ST0028 마그네슘 (Mg) 스퍼터링 타겟
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    Molybdenum Sputtering Target 99.95%, Dia. 6 inch
    ST0030 몰리브덴(Mo) 스퍼터링 타겟
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    Neodymium (Nd) Sputtering Target
    ST0031 네오디뮴(Nd) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Niobium (Nb) Sputtering Target
    ST0033 니오븀(Nb) 스퍼터링 타겟
    비교에 추가
    Praseodymium (Pr) Sputtering Target
    ST0036 프라세오디뮴(Pr) 스퍼터링 타겟
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    Niobium Target, Nb Target
    NB0036 니오븀 타겟, Nb 타겟
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