질화 티타늄 디스크 TiN 디스크 설명
티타늄 질화물 디스크 TiN 디스크는 고급 소결 방법을 통해 생산된 고순도 TiN 제품입니다. 이 디스크 포맷은 표준 처리 장비와 호환되도록 설계되어 원자적으로 매끄럽고 화학적으로 불활성인 표면을 제공합니다. TiN 조성물은 다양한 처리 환경에서 산화 및 오염에 대한 효과적인 장벽 역할을 합니다. 이 제형은 열 스트레스 하에서 구조적 무결성을 유지하여 표면 처리 및 촉매 응용 분야의 성능을 지원합니다.
질화 티타늄 디스크 TiN 디스크 특성
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특성
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Value
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재료
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질화 티타늄
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지름
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1-8mm(맞춤형)
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길이
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1-4mm(맞춤형)
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순도
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≥99%
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밀도
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5.22 g/cm3
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융점
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2930℃
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형태
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디스크
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*위의 제품 정보는 이론적 데이터를 기반으로 하며 참고용으로만 제공됩니다. 실제 사양은 다를 수 있습니다.
질화 티타늄 디스크 TiN 디스크 응용 분야
1.촉매 처리
- 화학 반응기의 촉매 지지체로 사용되어 화학적으로 불활성인 TiN 코팅을 활용하여 반응 속도를 향상시킵니다. 이를 통해 원치 않는 부반응을 최소화하고 효율적인 촉매 성능을 촉진합니다.
2.전자
- 반도체 소자의 배리어 층으로 적용되어 금속 확산을 줄이고, 소재의 우수한 열적 및 전기적 특성을 활용하여 소자 성능을 보장합니다.
3.산업용 코팅
- 고온 코팅 분야에서 마모와 부식을 완화하는 보호층 역할을 합니다. 엔지니어링된 TiN 표면은 산화를 줄여 산업 환경에서 부품 수명을 연장합니다.
질화 티타늄 디스크 TiN 디스크 포장
디스크는 기계적 손상과 오염을 방지하기 위해 맞춤형 폼 인서트가 있는 밀봉된 정전기 방지 용기에 포장되어 있습니다. 보관 지침은 습기와 온도 변화로부터 보호하기 위해 서늘하고 건조한 환경을 권장합니다. 특정 취급 요건에 맞게 라벨링과 추가 보호 레이어를 사용하여 포장을 맞춤화할 수 있습니다.
추가 정보
질화 티타늄 화합물은 고온 안정성, 전기 전도성 및 내식성으로 널리 연구되고 있으며, 표면 개질 및 촉매 공정에 적용하는 것은 산업 환경에서 부품 성능을 향상시키기 위한 진화하는 재료 과학 트렌드를 반영합니다.
티타늄 기반 코팅에 대한 연구는 계속해서 확대되고 있으며, 특히 정교한 소결 기술과 조성 제어에 중점을 두고 있습니다. 이러한 혁신은 기계적 특성과 내구성을 개선하여 최신 제조 및 가공 애플리케이션에서 티타늄 소재의 관련성을 강조합니다.