세륨(Ce) 스퍼터링 타겟 설명
세륨(Ce) 스퍼터링 타겟은 박막 증착 및 물리적 증기 증착 공정에서 최적의 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 고순도(≥99%)로 제조된 이 타겟은 RF 및 DC 조건에서 일관된 스퍼터링 수율과 고품질 필름 형성을 보장합니다. 표준 디스크 및 맞춤형 형태 모두에 적합한 설계로 반도체 제작, 광학 코팅 및 고급 연구 응용 분야에 적합한 다목적 선택입니다. 세륨의 견고한 특성은 도전적인 처리 조건에서도 내구성을 보장하여 중요한 응용 분야에서 신뢰할 수 있는 성능을 제공합니다.
세륨(Ce) 스퍼터링 타겟 규격
파라미터
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값
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재료
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세륨
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순도
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≥99%, 또는 맞춤형
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색상/외관
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은색, 금속성
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용융점
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798℃
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밀도
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6.70 g/cm³
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스퍼터
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RF, DC
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결합 유형
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인듐, 엘라스토머
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이용 가능한 크기
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직경: 2", 3", 4", 또는 맞춤형
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세륨(Ce) 스퍼터링 타겟 응용분야
ㆍ반도체 제조: 집적 회로 및 전자 장치에서 균일한 박막을 증착하는 데 이상적입니다.
ㆍ광학 코팅: 첨단 광학 응용 분야에서 정밀 반사 및 비반사 코팅을 위해 사용됩니다.
ㆍ마이크로전기전자: 센서, 디스플레이 및 기타 장치에서 고정밀 부품의 제작을 지원합니다.
ㆍ연구 및 개발: 고급 재료 과학 및 나노기술을 탐구하는 연구실에서 널리 적용됩니다.
ㆍ산업 표면 엔지니어링: 고 수요 산업 작업에서 다양한 표면 수정 프로세스를 수행합니다.
세륨 스퍼터링 타겟 포장
제품은 재료 치수에 따라 다양한 크기의 맞춤형 골판지 상자에 포장됩니다. 소형 품목은 PP 박스에 안전하게 포장되며, 대형 품목은 맞춤형 나무 상자에 담깁니다. 우리는 포장 맞춤 및 적절한 완충 재료의 사용을 엄격히 준수하여 운송 중 최적의 보호를 제공합니다.

포장: 골판지, 나무 상자 또는 맞춤형.
제조 공정
제조 공정

원소 분석 방법
- 금속 원소 분석: ICP-OES(유도 결합 플라즈마 광 발산 분광법)를 사용하여 수행됩니다.
- 가스 원소 분석: LECO 분석을 사용하여 수행됩니다.
자주 묻는 질문
Q: 세륨(Ce) 스퍼터링 타겟의 주요 응용 분야는 무엇입니까?
A: 반도체 제조, 광학 코팅, 마이크로전자, 박막 증착을 위한 고급 재료 연구에 주로 사용됩니다.
Q: RF 및 DC 스퍼터링 모드는 타겟 성능에 어떤 이점을 줍니까?
A: 이중 모드 스퍼터링 기능은 유연한 작동 조건을 제공하여 다양한 산업 응용 분야에서 최적의 필름 증착 및 균일한 스퍼터링 효율성을 제공합니다.
Q: 스퍼터링 타겟의 모양을 맞춤 제작할 수 있습니까?
A: 예, 우리의 세륨(Ce) 스퍼터링 타겟은 표준 디스크로 제공되거나 특정 응용 요구 사항에 맞춤형으로 제작될 수 있습니다.
Q: 이 스퍼터링 타겟의 보장 순도는 무엇입니까?
A: 각 타겟은 ≥99%의 순도 수준으로 생산되어 일관된 성능과 신뢰할 수 있는 필름 증착을 보장합니다.
Q: 오염 방지를 위해 제품은 어떻게 포장됩니까?
A: 타겟은 진공 밀봉된 보호 포장에 포장되어 저장 및 배송 중 오염을 방지하고 최적 상태를 유지합니다.