흑연 (C) 스퍼터링 타겟 설명
흑연 (C) 스퍼터링 타겟은 고순도 (≥99%) 및 우수한 열 안정성 덕분에 고급 스퍼터링 응용을 위해 설계되었습니다. 이 타겟은 반도체, 디스플레이 및 코팅 산업 전반에 걸쳐 균일하고 고품질의 박막을 생산하도록 설계되어 효율적이고 일관된 물질 증착을 보장합니다.
흑연 (C) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 박막 증착: 마이크로전자, 디스플레이 및 태양 전지의 정밀 코팅을 가능하게 합니다.
· 반도체 제조: 집적 회로 및 장치 제조의 스퍼터링 공정에 사용됩니다.
· 표면 공학: 산업 부품의 경도 및 내마모성과 같은 표면 특성을 향상시킵니다.
· 센서 제조: 고성능 센서를 위한 필요한 전도성과 안정성을 제공합니다.
흑연 (C) 스퍼터링 타겟 포장
우리의 흑연 (C) 스퍼터링 타겟은 운송 및 보관 중 순도와 성능을 보존하기 위해 안전하게 진공 포장됩니다.
포장 옵션:
· 표준: 5kg per bag
· 특별한 치수나 대량 주문을 위한 맞춤 옵션도 요청 시 가능합니다.
자주 묻는 질문
Q: 흑연 (C) 스퍼터링 타겟의 주요 용도는 무엇인가요?
A: 반도체 장치, 디스플레이 및 표면 코팅을 위한 박막을 증착하기 위한 스퍼터링 공정에 주로 사용됩니다.
Q: 흑연의 순도는 어떻게 검증되나요?
A: 순도는 엄격한 품질 관리 수단과 분석 기법을 통해 확인되어 ≥99% 순도 수준을 충족하거나 초과하는지 보장됩니다.
Q: PDC 스퍼터 지정은 무엇을 나타내나요?
A: PDC는 이 흑연 타겟에 대해 최적화된 스퍼터링 공정 호환성과 운영 조건을 나타냅니다.
Q: 스퍼터링 타겟의 형태는 맞춤 제작이 가능한가요?
A: 예, 우리의 흑연 (C) 스퍼터링 타겟은 표준 디스크 형태로 제공되며, 특수 응용 필요에 맞게 맞춤 제작할 수 있습니다.
Q: 인듐, 엘라스토머 결합의 장점은 무엇인가요?
A: 이 결합 유형은 스퍼터링 과정 중 우수한 접착력과 안정성을 보장하여 타겟의 전반적인 성능과 내구성을 향상시킵니다.