르티튬(Lu) 스퍼터링 타겟 설명
르티튬(Lu) 스퍼터링 타겟은 우수한 순도와 일관된 성능을 보장하기 위한 첨단 제조 과정을 통해 제작되었습니다. 높은 융해점과 정밀한 물질 조성을 포함한 독특한 특성으로 인해 다양한 고기술 산업의 스퍼터링 응용에 적합합니다. 이 타겟은 기판에 균일한 얇은 필름을 입히는 데 필수적이며, 전자 디스플레이, 태양 전지 및 광학 코팅의 성능과 내구성을 향상시킵니다. 맞춤형 사이즈가 제공되어 산업의 특정 요구 사항을 충족하고 연구 개발의 혁신을 촉진하도록 설계되었습니다.
르티튬(Lu) 스퍼터링 타겟 사양
파라미터
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값
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재료
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르티튬
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순도
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≥99%, 99.9% 또는 맞춤형
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색상/외관
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금속 외관(희토류 금속의 전형적 특성)
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융해점
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1,652℃
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밀도
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9.84 g/cm³
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스퍼터링
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N/A
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결합 유형
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인듐, 엘라스토머
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사용 가능한 사이즈
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지름: 2인치, 3인치, 4인치 또는 맞춤형
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르티튬(Lu) 스퍼터링 타겟 응용
· 얇은 필름 증착: 전자, 광학 및 태양광 장치에서 고품질 코팅 생산에 이상적입니다.
· 마이크로전자의: 고급 집적 회로 및 반도체 장치의 제조에 사용됩니다.
· 표면 엔지니어링: 내마모성과 개선된 물질 특성을 위한 균일한 필름 증착을 제공합니다.
· 연구 및 개발: 스퍼터링 기술의 새로운 응용을 위한 실험적인 연구에서 중요한 재료로 사용됩니다.
르티튬 스퍼터링 타겟 포장
저희 제품은 재료 치수에 따라 다양한 크기의 맞춤형 카톤에 포장됩니다. 작은 물품은 PP 박스에 안전하게 포장되며, 큰 물품은 맞춤형 나무 상자에 담깁니다. 포장 커스터마이징과 적절한 완충재 사용에 엄격하게 준수하여 운송 중 최적의 보호를 제공합니다.

포장: 카톤, 나무 상자 또는 맞춤형.
제조 과정
제조 과정

원소 분석 방법
· 금속 원소 분석: 유도 결합 플라즈마 광 방출 분광법(ICP-OES)을 사용하여 수행됩니다.
· 가스 원소 분석: LECO 분석을 사용하여 수행됩니다.
자주 묻는 질문
Q: 르티튬(Lu) 스퍼터링 타겟을 사용하는 산업은 무엇입니까?
A: 전자, 광학, 마이크로전자 및 재료 연구 산업에서 고품질 얇은 필름 증착에 널리 사용됩니다.
Q: 타겟의 높은 순도(≥99%)가 성능에 어떤 영향을 미칩니까?
A: 높은 순도는 일관된 스퍼터링 성능을 보장하고 오염을 최소화하며 얇은 필름 코팅의 품질과 균일성을 향상시킵니다.
Q: 사용 가능한 사이즈는 특정 응용에 맞춰 커스터마이징이 가능한가요?
A: 네, 스퍼터링 타겟의 사이즈는 다양한 산업 응용의 고유한 요구 사항을 충족하기 위해 완전히 맞춤화될 수 있습니다.
Q: 타겟의 결합 유형의 의미는 무엇입니까?
A: 인듐 및 엘라스토머를 결합제로 사용하면 작동 시 타겟 재료를 고정하여 고온 스퍼터링 프로세스에서 안정성과 내구성을 보장합니다.
Q: 르티튬(Lu) 스퍼터링 타겟은 스퍼터링 시스템에 어떻게 통합됩니까?
A: 표준 스퍼터링 시스템과 호환되도록 설계되어 얇은 필름 응용을 위한 증착 프로세스에 원활하게 통합될 수 있습니다.