니오븀(Nb) 스퍼터링 타겟 설명
니오븀(Nb) 스퍼터링 타겟은 뛰어난 순도와 일관성을 가진 제품을 생산하기 위해 고급 가공 기술로 정밀하게 제조됩니다. 높은 융해점과 밀도를 갖추고 있으며, DC 스퍼터링이 가능하여 반도체 소자 제작 및 표면 코팅 공정을 포함한 다양한 산업 응용 분야에 적합합니다. 내구성 및 성능을 위해 설계된 이 니오븀 타겟은 얇은 필름 증착에서 최적의 부착력과 품질을 보장하며, 맞춤형 형상으로 특정 생산 요구 사항에 맞게 조정될 수 있습니다.
니오븀(Nb) 스퍼터링 타겟 사양
사양
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세부사항
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재료 유형
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니오븀(Nb)
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순도
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≥99%, 99.95% 또는 맞춤형
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기호
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Nb
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색상/외관
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은색 금속
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융해점
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2477℃
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밀도
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8.57 g/cm³
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스퍼터링
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DC
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결합 유형
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인듐, 엘라스토머
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사용 가능한 크기
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직경: 2″, 3″, 4″ 또는 맞춤형
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니오븀(Nb) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 얇은 필름 증착: 전자 기기, 광학, 반도체 소자의 고품질 필름 제작에 적합합니다.
· 반도체 제작: 정밀하고 균일한 얇은 필름이 필요한 공정에 필수적입니다.
· 표면 코팅: 내마모성 및 부식 방지, 전반적인 재료 성능 향상에 활용됩니다.
· 연구 및 개발: 고급 재료 및 나노 기술 연구소의 실험적 설정에 이상적입니다.
니오븀 스퍼터링 타겟 포장
저희 제품은 자재 치수에 따라 다양한 크기의 맞춤형 상자에 포장됩니다. 작은 품목은 PP 상자에 안전하게 포장되며, 큰 품목은 맞춤형 목재 상자에 들어갑니다. 우리는 포장 맞춤화 및 적절한 완충 재료 사용에 철저히 준수하여 운송 중 최적의 보호를 제공합니다.

포장: 상자, 목재 상자 또는 맞춤형.
제조 공정
제조 공정

원소 분석 방법
- 금속 원소 분석: ICP-OES (유도 결합 플라스마 발광 분광법)를 사용하여 실시합니다.
- 가스 원소 분석: LECO 분석을 사용하여 실시합니다.
자주 묻는 질문
Q: 니오븀 스퍼터링 타겟의 주요 응용 분야는 무엇입니까?
A: 반도체 제작, 표면 코팅 공정 및 고급 재료 연구에서의 얇은 필름 증착에 주로 사용됩니다.
Q: 왜 높은 순도(≥99%)가 스퍼터링 타겟에서 중요한가요?
A: 높은 순도는 증착 중 오염을 최소화하여 필름 균일성과 중요한 응용에서의 성능을 향상시킵니다.
Q: 이 제품의 맥락에서 DC 스퍼터링은 무엇을 의미하나요?
A: DC 스퍼터링은 스퍼터링 과정에서 안정적이고 일관된 증착 환경을 제공하기 위해 직류 전원 공급 장치를 사용하는 것을 의미합니다.
Q: 맞춤형 스퍼터링 타겟의 형태가 산업 응용에 어떻게 도움이 되나요?
A: 맞춤형 형태는 특정 제조 시스템에 더 나은 통합을 가능하게 하여 다양한 증착 장비의 설계 요구 사항에 맞춰 스퍼터링 프로세스를 최적화합니다.
Q: 니오븀 스퍼터링 타겟을 다룰 때 주의해야 할 점은 무엇인가요?
A: 산화 방지를 위해 진공 밀봉 포장으로 보관하고, 높은 순도와 성능을 유지하기 위해 깨끗한 환경에서 주의 깊게 다뤄야 합니다.