| 카탈로그 번호. | ST0038 |
| 구성 | Rh |
| CAS 번호 | 7440-16-6 |
| 순도 | ≥99% |
| 모양 | 디스크 또는 맞춤형 |
| 지름 | 2", 3", 4", 5", 6" 또는 맞춤형 |
| 두께 | 0.25", 0.125" 또는 맞춤형 |
| 채권 유형 | 구리 또는 맞춤형 |
| 동의어 | 로듐 스퍼터링 타겟, Rh 타겟 |
로듐(Rh) 스퍼터링 타겟은 뛰어난 스퍼터링 성능과 우수한 부식 저항성으로 잘 알려져 있습니다. Stanford Advanced Materials는 첨단 제조 및 엄격한 품질 관리를 통해 혁신적이고 고품질의 재료를 제공하는 데 전념하고 있습니다.
A: 리드 타임은 사양에 따라 다르지만 일반적으로 맞춤형 모양의 경우 2주에서 4주 정도 소요됩니다. 표준 크기(2"-6" 디스크)는 재고가 있거나 리드 타임이 더 짧은 경우가 많습니다. 구체적인 견적은 문의해 주세요.
A: 예, 로듐의 적당한 열 전도성으로 인해 특히 고전력 DC 스퍼터링 애플리케이션의 경우 구리 백킹 플레이트에 타겟을 본딩할 것을 권장합니다. 당사는 최적의 열 접촉을 보장하고 타겟 균열을 방지하기 위해 인듐 및 엘라스토머 본딩 서비스를 제공합니다.
A: 고순도(99.99%) 타겟은 일반적으로 미세한 오염 물질도 필름 특성에 영향을 미칠 수 있는 반도체 및 고급 연구 분야에 필요합니다. 당사의 순도 99% 타겟은 많은 광학 및 장식용 코팅 응용 분야에 적합합니다. 문의 시 용도를 명시해 주세요.
A: 스퍼터링 속도는 특정 장비 및 매개 변수(전력, 압력, 타겟-기판 거리)에 따라 다르지만, 당사의 엔지니어링 팀은 시스템 구성에 따라 참조 데이터 및 공정 권장 사항을 제공할 수 있습니다.
오늘 바로 문의해 주시면 자세한 정보를 확인하시고 최신 가격 정보를 받으실 수 있습니다. 감사합니다!
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