스칸듐(Sc) 스퍼터 타겟 설명
스칸듐(Sc) 스퍼터 타겟은 높은 신뢰성을 위한 스퍼터링 응용을 위해 정밀 엔지니어링 된 재료입니다. 순도가 ≥99%인 이 타겟은 다양한 산업 요구 사항에 맞게 원형 디스크 또는 맞춤형 형태로 제공됩니다. 탁월한 물리적 특성과 일관된 성능으로 반도체 제조, 고급 코팅 및 특수 전자 제품의 응용에 적합합니다. 균일한 재료 특성으로 스퍼터링 프로세스의 효율성과 우수한 박막 품질을 제공합니다.
스칸듐(Sc) 스퍼터 타겟 사양
매개변수
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값
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재료
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스칸듐
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순도
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≥99%, 99.9% 또는 맞춤형
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색상/외관
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금속 광택
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융점
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1541℃
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밀도
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2.985 g/cm³
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스퍼터링
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DC
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결합 유형
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인듐, 엘라스토머
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사용 가능한 크기
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직경: 2인치, 3인치, 4인치 또는 맞춤형
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스칸듐(Sc) 스퍼터 타겟 응용 분야
· 박막 증착: 반도체 및 마이크로전자 산업에서 고품질 필름 제조에 적합합니다.
· 고급 코팅: 다양한 기판에 보호 및 장식 코팅 증착에 사용됩니다.
· 광학 장치: 성능 향상을 위한 광학 코팅 제조에 사용됩니다.
· 연구 및 개발: 학술 및 산업 연구실에서 실험적 스퍼터링 프로세스에 적합합니다.
스칸듐 스퍼터 타겟 포장
당사의 제품은 재료 크기를 기준으로 다양한 크기의 맞춤형 카톤에 포장됩니다. 작은 품목은 PP 박스에 안전하게 포장되고, 큰 품목은 맞춤형 나무 상자에 배치됩니다. 운송 중 최적의 보호를 제공하기 위해 포장 맞춤화와 적절한 완충 재료 사용을 엄격히 준수합니다.

포장: 카톤, 나무 상자 또는 맞춤형.
제조 과정
제조 과정

원소 분석 방법
· 금속 원소 분석: ICP-OES(유도 결합 플라즈마 광 발산 분광법)을 사용하여 수행됩니다.
· 가스 원소 분석: LECO 분석을 사용하여 수행됩니다.
자주 묻는 질문
Q: 스칸듐 스퍼터 타겟을 사용하는 산업은 무엇입니까?
A: 반도체 제조, 고급 코팅, 광학 장치 및 연구 개발 실험실이 스칸듐 스퍼터 타겟의 높은 성능으로부터 큰 혜택을 받습니다.
Q: 타겟의 순도가 스퍼터링 성능에 미치는 영향은 무엇입니까?
A: 높은 순도 타겟은 증착된 필름의 불순물을 줄여 전기적 및 광학적 특성을 개선하여 고급 응용 분야에 필수적입니다.
Q: 스퍼터 타겟의 형태를 맞춤 제작할 수 있나요?
A: 네, 타겟은 표준 디스크 형태로 제작되거나 특정 설계 및 제조 요구 사항에 맞게 맞춤 제작할 수 있습니다.
Q: "DC 스퍼터링"이란 무엇입니까?
A: DC 스퍼터링은 스칸듐과 같은 전도성 재료에 적합한 직류에 의해 구동되는 스퍼터링 프로세스를 의미하며 안정적인 증착 속도와 균일한 박막을 제공합니다.
Q: 스퍼터 타겟의 품질을 유지하기 위해 어떻게 취급해야 합니까?
A: 깨끗한 도구로 타겟을 취급하고 오염 및 산화를 방지하기 위해 진공 밀봉 또는 불활성 포장에 보관하는 것이 권장됩니다.