이트륨(Y) 스퍼터링 타겟 설명
이트륨(Y) 스퍼터링 타겟은 고정밀 진공 증착 응용을 위해 특별히 설계되었습니다. 순도 ≥99%를 달성하도록 제작되었으며, 디스크 형태로 제공되거나 생산 요구에 맞게 맞춤 제작이 가능합니다. RF 및 DC 스퍼터링 기술 모두를 지원하여 신뢰할 수 있고 일관된 필름 증착을 보장합니다. 우수한 열 및 물리적 특성으로 인해 이 타겟은 고성능 재료가 필요한 산업에 적합한 선택입니다.
이트륨(Y) 스퍼터링 타겟 사양
매개변수
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값
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재료
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이트륨
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순도
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≥99%, 또는 맞춤형
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색상/모양
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은색, 금속성
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녹는점
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1,526°C
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밀도
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4.469 g/cm³
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스퍼터링
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RF, DC
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결합 유형
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인듐, 엘라스토머
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사용 가능한 크기
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직경: 2″, 3″, 4″, 또는 맞춤형
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이트륨(Y) 스퍼터링 타겟 응용
· 전자 제조: 전자 기기에서 박막을 생산하는 데 필수적입니다.
· 반도체 소자 제작: 고품질 증착을 통해 고급 회로에 기여합니다.
· 광학 코팅: 다양한 광학 부품에 균일한 코팅을 적용하는 데 이상적입니다.
· 고급 재료 연구: 재료 과학에서 혁신적인 실험 및 개발을 지원합니다.
이트륨 스퍼터링 타겟 포장
당사의 제품은 재료 치수에 따라 다양한 크기의 맞춤형 상자에 포장됩니다. 작은 품목은 PP 상자에 안전하게 포장되며, 큰 품목은 맞춤형 목재 크레이트에 담깁니다. 포장 커스터마이징 및 적절한 완충 재료 사용을 철저히 준수하여 운송 중 최적의 보호를 제공합니다.

포장: 상자, 목재 상자 또는 맞춤형.
제조 공정
제조 공정

원소 분석 방법
- 금속 원소 분석: ICP-OES(유도 결합 플라즈마 광학 방출 분광법)을 사용하여 수행됩니다.
- 가스 원소 분석: LECO 분석을 사용하여 수행됩니다.
자주 묻는 질문
Q: 이트륨(Y) 스퍼터링 타겟을 증착 공정에서 사용하는 장점은 무엇인가요?
A: 높은 순도와 일관된 증착을 제공하여 다양한 응용에서 우수한 필름 균일성을 보장합니다.
Q: 이트륨(Y) 스퍼터링 타겟을 사용하는 산업은 어떤 곳이 있나요?
A: 전자 제조, 반도체 제작, 광학 코팅, 고급 재료 연구와 같은 산업에서 이 스퍼터링 타겟을 활용합니다.
Q: 이트륨(Y) 스퍼터링 타겟의 형태를 커스터마이즈할 수 있나요?
A: 예, 타겟은 표준 디스크 형태로 제공되거나 특정 응용 요구에 맞게 맞춤 제작이 가능합니다.
Q: RF와 DC 스퍼터링 기술이 이 타겟으로 인해 어떤 이점을 얻나요?
A: 이트륨(Y) 스퍼터링 타겟은 RF 및 DC 스퍼터링에 최적화되어 있으며, 다양한 증착 설정에서 일관된 성능을 제공합니다.
Q: 순도를 ≥99%로 유지하는 것이 스퍼터링 타겟에서 왜 중요한가요?
A: 높은 순도는 증착 중 오염을 최소화하므로, 중요한 응용에서 신뢰할 수 있고 고품질의 필름을 성취하는 데 필수적입니다.