니켈 구리 (Ni/Cu) 스퍼터링 타겟 설명
니켈 구리 (Ni/Cu) 스퍼터링 타겟은 현대 스퍼터링 증착 시스템에서 정밀성과 성능을 위해 설계되었습니다. 엄격한 품질 관리 하에 제조된 이 타겟은 고순도 조성(≥99%)을 제공하여 다양한 산업 응용을 위한 일관된 필름 증착을 보장합니다. 이 디자인은 표준 디스크 형태와 맞춤 제작 구성을 모두 지원하여, 맞춤형 증착 특성이 중요한 응용에서 이상적입니다. 인듐 및 탄성체와 같은 호환 가능한 결합 재료의 사용은 성능을 더욱 향상시켜 고급 박막 제조에서 다재다능한 구성 요소가 됩니다.
니켈 구리 (Ni/Cu) 스퍼터링 타겟 응용
· 반도체 제작에서의 스퍼터링 증착
· 광학 부품 및 디스플레이의 표면 코팅
· 태양광 발전 및 센서에서의 박막 형성
· 고급 소재 연구 및 개발
· 맞춤형 타겟 사양이 필요한 산업 응용
니켈 구리 (Ni/Cu) 스퍼터링 타겟 포장
당사의 니켈 구리 (Ni/Cu) 스퍼터링 타겟은 고순도 및 구조적 무결성을 유지하기 위해 제어된 조건에서 포장됩니다.
· 오염 방지를 위한 진공 밀폐 포장
· 표준 크기 또는 맞춤 주문 사양에 따라 제공됩니다.
자주 묻는 질문
Q: 니켈 구리 (Ni/Cu) 스퍼터링 타겟의 주요 응용은 무엇인가요?
A: 주로 반도체, 광학 코팅 및 기타 고급 기술 응용에서 박막 제조를 위한 스퍼터링 증착 과정에 사용됩니다.
Q: 고순도 (≥99%)가 스퍼터링 과정에 어떻게 도움이 되나요?
A: 고순도는 불순물의 존재를 최소화하여 민감한 응용에서 일관된 필름 품질과 향상된 성능을 보장합니다.
Q: 이 타겟의 결합 옵션에는 무엇이 있나요?
A: 타겟은 인듐 및 탄성체와 결합할 수 있어 다양한 증착 환경에서 다재다능성을 제공합니다.
Q: 스퍼터링 타겟의 형태를 맞춤 제작할 수 있나요?
A: 예, 타겟은 표준 디스크 형태로 제공되거나 특정 응용 요구 사항에 맞추어 맞춤 제작할 수 있습니다.
Q: 어떤 산업이 이 스퍼터링 타겟의 혜택을 받을 수 있을까요?
A: 반도체 제조, 광학, 태양광 발전, 연구 실험실 및 고급 소재 가공과 같은 산업에서 이 타겟의 높은 성능과 맞춤 제작 가능한 기능으로 큰 혜택을 받을 수 있습니다.