탄탈륨 알루미늄 (Ta/Al) 스퍼터링 타겟 설명
탄탈륨 알루미늄 (Ta/Al) 스퍼터링 타겟은 반도체 제조 및 박막 증착을 위한 정밀 응용 제품입니다. Ta/Al 조성과 99% 이상의 순도를 가진 이 제품은 고급 표면 코팅 과정에서 우수한 성능과 일관성을 제공합니다. 디스크 및 맞춤형 옵션을 포함한 다양한 형태로 맞춤화 할 수 있어 다양한 제조 요구 사항에 적합합니다. 최첨단 생산 기술로 설계된 이 타겟은 고압 환경에서도 우수한 증착 특성과 내구성을 보장합니다.
탄탈륨 알루미늄 (Ta/Al) 스퍼터링 타겟 응용 분야
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반도체 제조: 마이크로 전자기기를 위한 고정밀 증착에 적합합니다.
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박막 증착: 고급 코팅 응용을 위한 균일한 필름 형성을 제공합니다.
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마이크로 전자기기 및 MEMS: 소형 전자 부품 제작을 지원합니다.
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플라즈마 스퍼터링 공정: 진공 증착 시스템에서 성능을 향상합니다.
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맞춤형 산업 응용 분야: 연구 및 생산의 특정 요구 사항에 맞게 조정됩니다.
탄탈륨 알루미늄 (Ta/Al) 스퍼터링 타겟 포장
우리의 탄탈륨 알루미늄 스퍼터링 타겟은 품질과 무결성을 유지하기 위해 세심하게 포장됩니다. 각 타겟은 보호용 진공 밀폐 포장에 안전하게 들어 있습니다. 맞춤형 포장 옵션에는 전문 카톤에 포장된 개별 디스크가 포함되며, 특정 배송 및 취급 요구 사항에 맞게 추가 맞춤화가 가능합니다.
자주 묻는 질문
Q: Ta/Al 스퍼터링 타겟의 혜택을 받는 산업은 무엇인가요?
A: 반도체 제조, 마이크로 전자기기, 태양 전지 생산 및 박막 코팅과 같은 산업은 Ta/Al 스퍼터링 타겟의 높은 순도와 우수한 증착 특성으로 큰 혜택을 얻습니다.
Q: Ta/Al 조성이 스퍼터링 성능에 미치는 영향은 무엇인가요?
A: 탄탈륨과 알루미늄의 조합은 전도성, 내구성 및 균일한 증착의 균형을 제공하여 고품질 필름 형성과 운용 안정성을 보장합니다.
Q: 스퍼터링 타겟의 맞춤 크기나 형태를 요청할 수 있나요?
A: 네, 탄탈륨 알루미늄 스퍼터링 타겟은 디스크 및 특정 요구에 맞춘 다른 형식을 포함하여 맞춤형 형태로 제공됩니다.
Q: 이러한 타겟에 대해 어떤 품질 관리 조치가 시행되나요?
A: 각 타겟은 99% 이상의 순도 및 산업 표준 준수를 보장하기 위해 엄격한 품질 관리 절차를 거칩니다. 따라서 중요한 응용 분야에서 일관된 성능을 보장합니다.
Q: 이러한 타겟을 특별히 다루거나 저장해야 하나요?
A: 타겟은 깨끗하고 건조한 환경에 보관하고, 보호 포장을 사용하여 이송 및 사용 중 오염이나 손상을 방지하는 것이 좋습니다.