탄탈럼 몰리브덴 (Ta/Mo) 스퍼터링 타겟 설명
탄탈럼 몰리브덴 (Ta/Mo) 스퍼터링 타겟은 현대 반도체 및 얇은 필름 증착의 고성능 스퍼터링 애플리케이션을 위해 설계되었습니다. 순도 ≥99%로 생산되는 이 타겟은 다양한 생산 요구를 충족하기 위해 표준 디스크 형태와 맞춤형 형태로 제공됩니다. 인듐 또는 엘라스토머 본드가 적용된 견고한 설계로, 가장 힘든 처리 환경에서도 신뢰할 수 있는 작동 및 일관된 성능을 보장합니다.
이 타겟은 반도체 제조, 고급 코팅 프로세스 및 마이크로전자 장치 제작에 이상적이며, 정밀성과 재료 무결성이 매우 중요합니다.
탄탈럼 몰리브덴 (Ta/Mo) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 얇은 필름 증착: 반도체 장치에 슈퍼전도층 및 전도성 필름을 제작하는 데 필수적입니다.
· 반도체 제조: 집적회로 및 센서 생산을 위한 고순도 타겟을 제공합니다.
· 마이크로전자: 마이크로전자기계 시스템(MEMS) 및 기타 고성능 전자 부품의 개발에 사용됩니다.
· 코팅 프로세스: 다양한 기판에 대해 균일하고 고품질 스퍼터 코팅이 필요한 응용 분야에 적합합니다.
탄탈럼 몰리브덴 (Ta/Mo) 스퍼터링 타겟 포장
우리의 탄탈럼 몰리브덴 (Ta/Mo) 스퍼터링 타겟은 고품질을 유지할 수 있도록 신중하게 처리 및 포장됩니다. 제품은 저장 및 운송 중 오염 및 손상으로부터 보호하기 위해 안전하게 진공 밀봉되며, 포장은 귀하의 용량 및 애플리케이션 요구 사항에 맞추어 조정됩니다.
자주 묻는 질문
Q: Ta/Mo 스퍼터링 타겟이 얇은 필름 증착에 적합한 이유는 무엇입니까?
A: 순도 ≥99% 및 일관되고 맞춤형 형태를 생산할 수 있는 능력으로 최적의 필름 균일성과 증착 품질을 보장합니다.
Q: Ta/Mo 스퍼터링 타겟이 가장 일반적으로 사용되는 산업은 어디인가요?
A: 반도체 제조, 마이크로전자 및 고급 코팅 프로세스에서 널리 사용됩니다.
Q: 타겟 형태를 특정 애플리케이션 요구에 맞게 조정할 수 있나요?
A: 네, 타겟은 표준 디스크 형태뿐만 아니라 특정 생산 요구에 맞춘 맞춤형 형태로 제공됩니다.
Q: 스퍼터링 타겟에서 높은 순도가 중요한 이유는 무엇인가요?
A: 순도 ≥99%는 필름 및 전자 부품의 성능과 신뢰성에 부정적인 영향을 줄 수 있는 불순물을 최소화합니다.
Q: 이 스퍼터링 타겟에서 사용되는 본드 재료는 무엇이며, 그 장점은 무엇인가요?
A: 타겟은 인듐과 엘라스토머 본드를 사용하며, 고에너지 스퍼터링 프로세스에서 우수한 열 및 기계적 안정성을 제공합니다.