바나듐 텅스텐 (V/W) 스퍼터링 타겟 설명
바나듐 텅스텐 (V/W) 스퍼터링 타겟은 고정밀 박막 증착 및 고급 재료 가공을 위해 제작되었습니다. 순도 ≥99%의 프리미엄 V/W 재료를 사용하여 일관된 스퍼터링 성능을 지원하며, 특정 공정 요구사항을 충족하기 위해 디스크 또는 맞춤형 형태로 제공됩니다. 인듐 및 엘라스토머와 같은 독특한 결합 옵션은 신뢰할 수 있는 기계적 통합을 보장하여 반도체 제조 및 광학 코팅과 같은 중요한 응용 분야에 이상적인 선택입니다.
바나듐 텅스텐 (V/W) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 박막 증착: 마이크로전자 및 광학 장치에서 사용되는 고품질 필름 제작에 적합합니다.
· 반도체 가공: 현대 반도체 장치에 필수적인 높은 신뢰성 및 균일성을 제공합니다.
· 표면 코팅: 높은 정밀성과 내구성을 요구하는 산업 응용 분야의 고급 코팅에 이상적입니다.
· 연구 개발: 맞춤형 형태로 혁신적인 실험 설정 및 프로토타입 개발을 위한 맞춤형 솔루션을 제공합니다.
바나듐 텅스텐 (V/W) 스퍼터링 타겟 포장
바나듐 텅스텐 (V/W) 스퍼터링 타겟은 보관 및 운송 중 품질을 보존하기 위해 최대한의 주의로 포장됩니다.
· 표준 포장: 오염 및 기계적 손상을 방지하기 위해 안전하게 밀봉된 보호 포장.
· 특정 취급 및 물류 요구 사항을 충족하기 위한 맞춤형 포장 옵션이 요청 시 제공됩니다.
자주 하는 질문
Q: V/W 스퍼터링 타겟을 다른 스퍼터링 타겟과 구별하는 요소는 무엇인가요?
A: V/W 스퍼터링 타겟은 독특한 금속 성질과 높은 화학적 안정성을 제공하여 고성능 박막 증착 응용 분야에 적합합니다.
Q: 스퍼터링 타겟의 형태를 맞춤형으로 제작할 수 있나요?
A: 네, 타겟은 디스크 형태로 제공되거나 특정 설계 및 공정 요구 사항을 충족하도록 맞춤 제작할 수 있습니다.
Q: 이 제품에 대한 결합 옵션은 무엇이 있나요?
A: 타겟은 인듐 및 엘라스토머로 결합되어 다양한 작동 조건에서 안전한 부착을 보장합니다.
Q: 순도 수준이 스퍼터링 성능에 어떻게 영향을 미치나요?
A: ≥99%의 순도는 증착 공정 중 오염을 최소화하여 고품질의 균일한 박막을 생성합니다.
Q: 어떤 산업이 V/W 스퍼터링 타겟을 가장 많이 활용할 수 있나요?
A: 반도체 제조, 광학 및 마이크로전자와 같은 산업은 타겟의 정밀성, 신뢰성 및 맞춤형 옵션으로 인해 큰 혜택을 받습니다.