안티모니 산화물 (Sb2O3) 스퍼터링 타겟 설명
안티모니 산화물 (Sb2O3) 스퍼터링 타겟은 우수한 스퍼터링 성능과 재료 일관성을 보장하기 위해 첨단 제조 기술을 사용하여 생산됩니다. 순도 ≥99%, 융점 656℃, 밀도 5.2 g/cm³를 갖춘 이 타겟은 RF 스퍼터링 시스템에서 신뢰할 수 있는 결과를 제공하도록 설계되었습니다. 연구실과 대량 생산 시설 모두에 적합하며, 표준 디스크 및 특정 응용 프로그램 요구 사항을 충족하기 위한 맞춤형 디자인을 포함한 다양한 형태 옵션을 제공합니다.
안티모니 산화물 (Sb2O3) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 반도체 제조: 집적 회로에서 고품질 박막을 증착하는 데 필수적입니다.
· 전자 장치: 고급 전자 구성 요소의 정밀 코팅을 만드는 데 사용됩니다.
· 광학 코팅: 광학 필터 및 센서를 제조하는 데 이상적입니다.
· 표면 엔지니어링: 향상된 표면 특성을 위한 제어된 증착이 필요한 공정에 적용됩니다.
안티모니 산화물 (Sb2O3) 스퍼터링 타겟 포장
우리의 안티모니 산화물 (Sb2O3) 스퍼터링 타겟은 저장 및 운송 중 고순도와 구조적 무결성을 유지하기 위해 신중하게 포장됩니다. 제품은 진공 밀봉되며, 특정 크기 요구 사항에 맞춰 맞춤화되어 최적의 성능을 보장합니다.
자주 묻는 질문
Q: 안티모니 산화물 (Sb2O3) 스퍼터링 타겟의 주요 응용 분야는 무엇인가요?
A: 주로 반도체 및 전자 장치 제조에서 고품질 코팅 및 성능을 보장하는 박막을 증착하는 데 사용됩니다.
Q: RF-R 스퍼터링은 무엇을 의미하나요?
A: RF-R 스퍼터링은 반응성 스퍼터링의 라디오 주파수를 나타내며, 화합물 및 산화물 재료의 정확한 스퍼터링을 최적화한 방법입니다.
Q: 높은 순도 (≥99%)가 스퍼터링 공정에 어떤 이점을 제공하나요?
A: 높은 순도는 증착 중 불순물이 최소화되어 일관된 필름 품질과 전자 응용 분야에서 신뢰할 수 있는 성능을 보장합니다.
Q: 이 스퍼터링 타겟의 형상을 맞춤화할 수 있나요?
A: 예, 타겟은 표준 디스크 형태로 제공되며, 특정 응용 프로그램 요구 사항에 맞춰 맞춤 제작될 수 있습니다.
Q: 이 제품에 대한 품질 관리 조치는 무엇인가요?
A: 지속적인 모니터링 및 엄격한 품질 보증 프로토콜을 통해 모든 타겟이 규정된 융점, 밀도 및 순도 기준을 충족하도록 보장하여 RF 스퍼터링 시스템에서 최적의 성능을 보장합니다.