IGZO 스퍼터링 타겟 설명
인듐 갈륨 산화물 (IGZO) 스퍼터링 타겟은 얇은 박막 증착 공정에서 뛰어난 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 순도 ≥99%의 In2O3, Ga2O3, ZnO의 정밀한 조성으로 제조된 이 타겟은 고급 응용 분야를 위해 균일하고 신뢰할 수 있는 스퍼터링 결과를 보장합니다. 원형 또는 맞춤형 형태는 디자인의 유연성을 제공하며, 제어된 융점과 밀도는 공정 중 일관된 물질 거동을 촉진합니다. 본드 메탈로 사용된 인듐의 포함은 재료의 특성을 더욱 향상시켜 고급 디스플레이, 반도체 및 센서 응용에 적합합니다.
IGZO 스퍼터링 타겟 응용
· 디스플레이 기술: 고급 디스플레이 패널을 위한 박막 트랜지스터 제작에 사용됨.
· 반도체 장치: 집적 회로 제조에서 산화막을 증착하는 데 적합함.
· 센서 응용: 고감도 가스 및 화학 센서 제작에 사용됨.
· 옵토일렉트로닉스: 터치 패널 및 태양 전지용 투명 전도성 산화물 제조에 활용됨.
· 연구 및 개발: 실험적인 박막 연구 및 새로운 장치 제작을 위한 핵심 재료로 사용됨.
IGZO 스퍼터링 타겟 포장
당사의 IGZO 스퍼터링 타겟은 보관 및 운송 동안 완전한 상태를 유지하도록 신중하게 포장됩니다. 일반적으로 타겟은 보호 포장재에 진공 밀봉되어 있으며, 고객 요구 사항에 맞춰 다양한 크기의 포장 옵션이 제공됩니다.
자주 묻는 질문
Q: IGZO 스퍼터링 타겟의 주요 응용 분야는 무엇인가요?
A: 주로 디스플레이 기술, 반도체 장치, 옵토일렉트로닉스 및 센서 제조를 위한 박막 증착에 사용됩니다.
Q: IGZO 조성은 생산 중 어떻게 유지되나요?
A: 타겟은 고성능 스퍼터링을 위한 In2O3, Ga2O3, ZnO의 정확한 화학량론이 유지되도록 정밀 제어된 공정으로 제조됩니다.
Q: IGZO 스퍼터링 타겟의 맞춤형 형태와 크기가 가능한가요?
A: 네, 표준 원형 외에도 특정 디자인 및 공정 요구 사항에 맞춰 맞춤형으로 제작할 수 있습니다.
Q: 고순도 (≥99%) IGZO 타겟이 제공하는 이점은 무엇인가요?
A: 높은 순도는 스퍼터링 중 불순물이 최소화되어 균일성이 향상되고 장치 성능이 개선되며 더 높은 품질의 박막을 생성할 수 있습니다.
Q: IGZO 스퍼터링 타겟은 다양한 스퍼터링 시스템에서 사용할 수 있나요?
A: 네, 타겟은 다양한 산업 응용에 적합한 다양한 스퍼터링 시스템 및 박막 증착 기술과 호환됩니다.