란타넘 알루미네이트 (LaAlO3) 스퍼터링 타겟 설명
란타넘 알루미네이트 (LaAlO3) 스퍼터링 타겟은
얇은 필름 증착 과정에서 우수한 성능을 위해 설계되었습니다. 99% 이상의 고순도 및 정밀도로 제조되어 RF, RF-R 및 DC 스퍼터링 기술에 최적화되어 있습니다. 약 2080℃의 융점과 약 6.52 g/cm³의 밀도를 가진 이 타겟은 고급 기술 응용 분야에서 일관되고 신뢰할 수 있는 결과를 제공합니다. 뛰어난 물질적 특성으로 인해 반도체 장치, 광학 코팅 및 고온 안정성과 성능이 중요한 에너지 응용 분야에 적합한 선택입니다.
란타넘 알루미네이트 (LaAlO3) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 얇은 필름 증착: 반도체 및 디스플레이 산업에서 고품질 유전체 및 절연 필름을 생성하는 데 이상적입니다.
· 고급 전자제품: 필름 균일성이 정밀하게 요구되는 커패시터, 센서 및 기타 전자 부품 제조에 사용됩니다.
· 광학 코팅: 우수한 투명도 및 광학 열화 저항을 가진 광학 부품 생산에 적합합니다.
· 에너지 응용: 에너지 효율적인 장치 및 고급 에너지 저장 시스템 개발에 적용됩니다.
란타넘 알루미네이트 (LaAlO3) 스퍼터링 타겟 포장
란타넘 알루미네이트 스퍼터링 타겟은
높은 순도와 품질을 유지하기 위해 세심하게 제조 및 포장됩니다. 타겟은 표준 디스크 형태로 제공되며 특정 산업 요구 사항에 맞게 맞춤 제작할 수 있습니다. 각 단위는 저장 및 운송 중 보호를 보장하기 위해 안전하게 포장됩니다.
자주 묻는 질문
Q: 란타넘 알루미네이트 스퍼터링 타겟의 주요 응용 분야는 무엇인가요?
A: 주로 전자, 광학 및 에너지 장치의 얇은 필름 증착에 사용되며, 높은 열 안정성과 순도가 필수적입니다.
Q: 이 타겟과 호환되는 스퍼터링 방법은 무엇인가요?
A: 이 타겟은 RF, RF-R 및 DC 스퍼터링 프로세스에 최적화되어 있습니다.
Q: 란타넘 알루미네이트 (LaAlO3) 스퍼터링 타겟의 순도 수준은 얼마인가요?
A: 제품은 99% 이상의 순도를 유지하도록 제조됩니다.
Q: 타겟을 디스크 이외의 형태로 생산할 수 있나요?
A: 예, 특정 응용 요구 사항을 충족하기 위해 맞춤 제작된 타겟도 제공됩니다.
Q: 이 스퍼터링 타겟의 주요 물리적 특성은 무엇인가요?
A: 약 2080℃의 융점과 약 6.52 g/cm³의 밀도를 가지며, 고온 응용에서 우수한 성능을 제공합니다.